Gebraucht ASML Twinscan 1700i #9408937 zu verkaufen

Hersteller
ASML
Modell
Twinscan 1700i
ID: 9408937
Weinlese: 2009
Immersion scanner CIM: SECS Process: Backend 40/45 nm Argon fluoride laser: 193 nm 2009 vintage.
ASML Twinscan 1700i ist einer der führenden Waferstepper in der Halbleiterindustrie. Es wurde entwickelt, um ein effizientes und genaues Lithographie-Scannen zu ermöglichen, um detaillierte Schaltungsmuster und Strukturen auf Substraten wie Silizium-Wafern zu erstellen. Twinscan 1700i besteht aus einer Fünf-Achsen-Bühne, Photolithographie-Objektiv und Projektionsausrüstung. Die Fünf-Achsen-Stufe ist mit Linearmotoren ausgestattet, die ultrapräzise und schnelle Positionierungsmöglichkeiten bieten und schnellere Zykluszeiten ermöglichen. Das Objektiv ist ein hochgenaues und hochdisperses Fokussiersystem mit einer Kapazität von bis zu 1,2-facher Vergrößerung. Die Projektionseinheit besteht aus einer Beleuchtungsquelle, optischen Elementen und einer Projektionslinse, die gemeinsam Vollchip-Layoutdesigns auf Substrate projizieren. ASML Twinscan 1700i ist auch mit einer fortschrittlichen Steuerungsmaschine ausgestattet. Dieses Tool verfügt über integrierte Funktionen, die es für eine breite Palette von Anwendungen geeignet machen, einschließlich einschichtiger und mehrschichtiger Designs. Dazu gehören Optimierungstechniken zur Reduzierung von Pixelfehlern, verbesserte Ausrichtungsgenauigkeit und nahtlose Kantenschärfe. Twinscan 1700i verfügt auch über ein Hochgeschwindigkeits-Rechenmodul und erweiterte Tracking- und Overlay-Korrekturfunktionen, die es dem Asset ermöglichen, Zykluszeiten unter Beibehaltung hoher Bildgenauigkeit zu reduzieren. ASML Twinscan 1700i wurde entwickelt, um maximale Flexibilität in Bezug auf Dosis und Fokus zu bieten. Das Modell kann einfach auf kundenspezifische Anforderungen konfiguriert werden und ist auch mit einer Vielzahl von Substraten kompatibel. Twinscan 1700i hat hohe Verfügbarkeit, geringe Serviceanforderungen und ausgezeichnete Zuverlässigkeit. Darüber hinaus bietet es umfassende Lithographielösungen sowohl für Prototypen als auch für Produktionslinien und kann für eine Vielzahl von mikroelektronischen Anwendungen eingesetzt werden.
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