Gebraucht ASML Twinscan AT 1100B #293652583 zu verkaufen
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ID: 293652583
Wafergröße: 8"-12"
Weinlese: 2003
ArF Scanner, 8"-12"
193 nm
STARLITH 1100 Lens 4x
(2) Reticle SMIF pods, 6"
Throughput: >60 WPH
Scan field: 26 x 32 nm
Conventional illuminator: 0.85 - 0.33
DOE Turret illuminator with quasar
CYMER NANOLITH 7000 Series ArF laser, 20 W
SUN SPARC Remote workstation
Chemical extraction system
FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Polaris 3500 Tracking interface
SECS I
SECS II
Annular
2003 vintage.
ASML Twinscan AT 1100B ist ein hochpräziser Wafer-Stepper für die Herstellung von Halbleitern der nächsten Generation. Es bietet eine genaue, wiederholbare Verarbeitung von einfachen und großflächigen Photomasken mit einem Durchmesser von bis zu 180 Millimetern (mm) mit fortschrittlichen Ausrichtungs- und Verifizierungstechnologien, um Ertrag und Qualität zu gewährleisten. Diese Mehrstrahlmaschine ist mit einer fortschrittlichen Ausrüstung und einem hochmodernen Beleuchtungssystem ausgestattet, das eine maximale Bildauflösung ermöglicht. Die hohe Geschwindigkeit, Genauigkeit und Wiederholbarkeit der Maschine machen sie ideal für die Produktion von Wafern mit fortschrittlichen Funktionen. Twinscan AT 1100B verfügt über eine Single-Scan-Architektur mit einer dynamischen Fokuseinheit, die einen präzisen Fokus und eine dynamische Scangeschwindigkeit gewährleistet, die eine konsistente Scangeschwindigkeit über den gesamten Chip hinweg aufrechterhält. Die Maschine ist mit einem leistungsstarken, robusten Maskentransportwerkzeug zur präzisen Maskenpositionierung und Bildausrichtung sowie einer integrierten Waferbühne für zuverlässiges Wafer-Handling ausgestattet. Darüber hinaus ist die Maschine mit optischen Mustererkennungs- und Verifikationswerkzeugen ausgestattet, die Feedback zu Leistung und Produktdaten liefern. ASML Twinscan AT 1100B verfügt über eine Bilderzeugungsanlage mit geringer Vergrößerung, mit der Photomasken vor der Produktion überprüft und verifiziert werden können, während die hochauflösenden Scanner eine präzise lithografische Leistung gewährleisten. Die Maschine ist auch mit fortschrittlichen lithographischen Überwachungs- und Messtechnik-Systemen ausgestattet, um eine kontinuierliche Überwachung während des gesamten Prozesses zu gewährleisten. Die Maschine ist in der Lage, bis zu 180 Wafer pro Stunde zu verarbeiten und ist bereit, eine breite Palette von mehreren Photomasken durch den Einsatz moderner Filmdickenmesssysteme zu handhaben. Zusammenfassend ist Twinscan AT 1100B ein leistungsstarker, präziser, zuverlässiger und robuster Wafer-Stepper, der eine präzise lithographische Wiedergabe von Photomasken ermöglicht. Mit seinem fortschrittlichen Bühnenmodell, innovativen Beleuchtungsgeräten und integrierten Wafer-Handling-Tools ist ASML Twinscan AT 1100B eine ausgezeichnete Wahl für die Herstellung komplexer ICs mit hoher Genauigkeit.
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