Gebraucht ASML Twinscan AT 1100B #293810555 zu verkaufen
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ID: 293810555
Wafergröße: 8"-12"
ArF Scanner, 8"-12"
193 nm
STARLITH 1100 Lens 4x
(2) Reticle SMIF pods, 6"
CYMER NANOLITH 7000 Series ArF laser, 20 W.
ASML Twinscan AT 1100B ist eine führende Schritt-und-Scan-Lithographie-Ausrüstung, die speziell für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente entwickelt wurde. Mit diesem Step-and-Scan-System werden die fortschrittlichsten Komponenten der Elektronikindustrie hergestellt. Das Gerät wurde entwickelt, um eine beispiellose Präzision und Wiederholbarkeit im Lithographieprozess zu gewährleisten. Twinscan AT 1100B verwendet eine verbesserte Wafer-Bühnenmaschine mit erhöhter Genauigkeit und Präzision, die ihre Schritt- und Scanfähigkeit effizienter nutzt. Dieses Wafer-Bühnenwerkzeug ist in den Beleuchter des Asset integriert, der eine optische Hochleistungsquelle ist und mit einem Argonfluoridlaser Laserstrahlung erzeugt. Diese Laserstrahlung erreicht die Oberfläche eines Wafers und erzeugt Muster für Geräte, die bis zu 65 Nanometer groß sein können. Der Lithographieprozess wird durch eine Reihe ausgeklügelter Software-Algorithmen gesteuert, die ein dynamisches Fokus-Management-Modell und eine grafische Benutzeroberfläche beinhalten. Das dynamische Fokusmanagement sorgt dafür, dass die Laserstrahlung im Fokus bleibt und die strukturierten Schichten exakt auf den Wafer projiziert werden. Die grafische Benutzeroberfläche ermöglicht es dem Benutzer, den Lithographieprozess einfach zu manipulieren, um den Anforderungen des hergestellten Geräts gerecht zu werden. ASML Twinscan AT 1100B bietet eine Reihe fortschrittlicher Funktionen, die es zu einer leistungsstarken Schrittlösung machen. Dazu gehört ein integriertes Messsystem, mit dem der Anwender die Genauigkeit des hergestellten Gerätes schnell und genau messen kann. Darüber hinaus ist das Gerät mit einer fortschrittlichen Belichtungssteuerungsmaschine ausgestattet, die es Anwendern ermöglicht, die Mikrodosis der zum Mustern des Geräts erforderlichen Strahlung genau zu steuern. Twinscan AT 1100B ist mit renommierter Präzision konstruiert und bietet ein hohes Leistungsniveau. Dieses Tool ist auch unglaublich vielseitig; es ist in der Lage, verschiedene Belichtungstechniken, Musteränderung und Belichtungsnähte zu verwenden, um Muster mit größerer Komplexität und Präzision zu erzeugen. Diese Fähigkeit erhöht das Potenzial für eine leistungsstarke Produktion bei minimaler Verschwendung. Insgesamt ist ASML Twinscan AT 1100B ein leistungsstarker, hochpräziser Wafer-Stepper, der sich ideal für die Fertigung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente eignet. Diese Ressource bietet unübertroffene Genauigkeit und Wiederholbarkeit durch ihre beeindruckende Schritt-und-Scan-Lithographie-Fähigkeit, ausgefeilte Software und ein fortschrittliches Belichtungssteuerungsmodell. Dank seiner vielseitigen Eigenschaften und seiner außergewöhnlichen Leistung ist es eine erstklassige Wahl für jede Halbleiterproduktionsanlage.
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