Gebraucht ASML Twinscan AT 1150i #9112175 zu verkaufen

ASML Twinscan AT 1150i ist ein integrierter Wafer-Stepper für die Photomask-zu-Wafer-Lithographie. Es bietet leistungsstarke Optik, niedrige Betriebskosten und eine breite Palette von Belichtungsfunktionen für die anspruchsvollsten Lithographieprozesse. Der Stepper ist mit einer Beleuchtungseinrichtung ausgestattet, die voll programmierbare Belichtungsfelder bereitstellt und eine Vielzahl von lithographischen Formen wie lange Quellen, mehrstufige Photomasken und hochauflösende Masken ermöglicht. Das Beleuchtungssystem basiert auf einer DUV-optomechanischen Einheit, die für Aberrationen bis zur 4. Ordnung korrigierbar ist und eine hohe numerische Apertur (NA) von 0,72 und eine minimale Spotgröße von bis zu 2,5 Mikrometern bietet. Diese Hochleistungs-Optikmaschine bietet eine hervorragende Auflösung und Tiefe des Fokus, so dass der Stepper die fortschrittlichsten Prozessherausforderungen kostengünstig angehen kann. Darüber hinaus ist das Optik-Tool von Twinscan AT 1150i in der Lage, eine Overlay-Genauigkeit von 0,3 Mikrometern mit Standardinterferometrie und fortschrittlichen komplexen Mustererkennungstechniken zu unterstützen. ASML Twinscan AT 1150i besteht aus einer Vielzahl von kritischen Systemen, darunter ein Auto-Aligner, Mikroprojektionsobjektiv, Stepper-Controller, Wafer-Scanning-Plattform und Wafer-Bühne. Der Auto-Aligner sorgt für eine genaue Ausrichtung der Belichtungsprofile während des Lithographieprozesses. Das Mikroprojektionsobjektiv ist in der Lage, qualitativ hochwertige Bilder mit einer Auflösung von bis zu 0,6 µm zu erzeugen, während der Schrittregler die Belichtungsauflösung und Lichtintensität hochoptimiert verwaltet. Die Wafer-Scan-Plattform unterstützt sowohl Einzelmasken- als auch Mehrfachmasken-Belichtungsmodi und ermöglicht sowohl hohen Durchsatz als auch hohe Wiederholbarkeit. Schließlich ist die Waferstufe in der Lage, eine genaue Positionierung und Ausrichtung des Wafers bezüglich der Maske und Belichtungsfenster vorzusehen. Twinscan AT 1150i verfügt über eine leistungsstarke Software-Suite, die einen automatisierten und optimierten Lithographieprozess auf einer Vielzahl von Substraten und Wafergrößen bietet. Das Asset beinhaltet intuitive benutzerfreundliche Softwaresteuerungen, mit denen Anwender Prozessänderungen schnell und effizient durchführen können. Dieser Stepper bietet rezeptbasierte vordefinierte Rezepte für eine Vielzahl von Lithographieanwendungen, die eine schnelle Umsetzung in den Produktionsprozess ermöglichen. ASML Twinscan AT 1150i verfügt zudem über intuitive Diagnosefunktionen, mit denen Bediener potenzielle Probleme im Lithographieprozess schnell erkennen und beheben können. Insgesamt ist Twinscan AT 1150i ein fortschrittlicher, leistungsstarker Wafer-Stepper, der eine breite Palette fortschrittlicher Lithographieoptionen für die anspruchsvollsten Anwendungsanforderungen bietet. Es verfügt über leistungsstarke Optik, robuste Softwaresteuerungen und automatisierte Prozesskalibrierung. Das Modell ist eine ideale Lösung für kostengünstige und effiziente Lithographieverfahren.