Gebraucht ASML Twinscan XT 1200B #9096080 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9096080
Stepper
Slit uniformity: 0.31%
Intensity: 1024.54
Symmetrical error: 0.13%
Max stray light: 0.42%
Slit average: 0.36%
With Unicorn at center: 0.406
SAMOS: 0.89%
Best focus: -0.017
Focus range: 102
AST: 39
Chuck ID 1
Max DX Stdev. DY
1 4.5 2.2 1.8
2 3.5 2.4 0.3
3 3.1 2.1 2.4
4 2.9 3 2
5 2.9 2.1 1
Max DY Stdev. DX
1 3.5 1.6 1.3
2 3.2 1.5 1.6
3 2.9 2 0.8
4 2.8 1.8 2.3
5 2.8 1.6 2.2
Chuck ID 2
Max DX Stdev. DY
1 4.7 4.2 2.8
2 3.7 3.4 2.1
3 3.4 4.3 0.2
4 3.2 3.9 3.2
5 2.7 4.2 0.7
Max DY Stdev. DX
1 3.6 2.9 0.7
2 3.5 1.9 0.9
3 3.4 2.3 0.2
4 3.2 2.9 3.2
5 2.8 2.3 2.3
342/440 VAC, 48/52 Hz, 30 kVA.
ASML Twinscan XT 1200B ist ein fortschrittlicher Wafer-Stepper für die Herstellung integrierter Schaltungen. Es wird verwendet, um Photomasken während der Chipherstellung genau auf Halbleiterscheiben zu strukturieren. Das XT- 1200B basiert auf der ASML-Twin-Beam-Scanning-Technologie und verfügt über ein modernes optisches Teilsystem und eine leistungsfähige Scanfeld-Effektivität. Das XT 1200B ist mit zwei diffraktiven optischen Elementen (DOEs) in jeder Projektionseinheit ausgestattet und verfügt über ein integriertes Resist-Imaging-System. Die DOEs verwenden zwei getrennte optische Pfade, um Aberrationen exakt zu korrigieren, um fokussierte Submikron-Linienmuster zu erzeugen. Das integrierte Resist-Imaging-System bietet eine kopierarme Maskierung von dünnen oder dicken Schichten aus strukturierten Photoresists. Die Ausrichtungsgenauigkeit des XT- 1200B beträgt 12nm (1 σ) mit 2nm Drift, was die Ätz- und Ausbeute des fertigen Produkts verbessert. Es implementiert die Messung und Überwachung kritischer Maschinenparameter wie Retikel/Wafer Ebenheit, Strahlgleichförmigkeit, Positionierung und Zeigegenauigkeit und sogar elektrisches Verhalten des Substrats während der Strukturierung. Das XT- 1200B verfügt über ein Reticle-Scan-Feld von 12 Zoll, eine vollständige Feld-Scan-Rate von 15,25 Millionen Pixel pro Sekunde und eine Gesamt-Wafer-Scan-Rate von 124 Millionen Pixel pro Sekunde. Seine maximale numerische Apertur von 0,25 bietet eine Auflösungsgrenze von weniger als 0,25 Mikrometer. Die XT- 1200B verfügt auch über große Dosen von bis zu 600mJ/cm ^ 2, die schnellere Expositionen bei dickeren Resists ermöglichen. Darüber hinaus bietet dieses Modell eine vollständige Palette von Datenanalyse- und Reporting-Tools, mit denen Anwender die Maschinenleistung hinsichtlich Bildgebung, Overlay und Objektivschäden optimieren können. Das XT 1200B verfügt zudem über eine automatisierte Stufenkalibrierung und Aberrationskorrektur für anhaltende Stabilität und Performance. Insgesamt ist Twinscan XT 1200B ein hochmoderner Wafer-Stepper, der sich gut für die Serienproduktion fortschrittlicher Halbleiterbauelemente eignet. Es kombiniert ausgezeichnete Ausrichtungsgenauigkeit, hohen Durchsatz und erweiterte Funktionen wie Aberrationskorrektur und integrierte Resist-Bildgebung, um sicherzustellen, dass jede Charge von Halbleitern perfekt aus der Fabrik kommt.
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