Gebraucht ASML Twinscan XT 1250D #293820026 zu verkaufen

ASML Twinscan XT 1250D ist ein Wafer-Stepper für die Herstellung von Halbleiterscheiben. Es ist eine ultra-hochauflösende Lithographie-Ausrüstung, die eine Bildgröße von 890 nm in der X-Y-Ebene bietet. Dieses System verwendet typische aktinische Beleuchtungsquellen wie Laser, um Muster auf den Halbleiterwafer zu schreiben, und kann Merkmale bis zu 60 nm erzeugen. Es ist in der Lage, ein einzigartiges optisches Muster in negativem und positivem Resist zu erzeugen. ASML TWINSCAN XT:1250D ist mit einem leistungsstarken Generator, Controller und Software für optimale Lithographieaufgaben ausgestattet. Es verfügt über einen 48-Zoll-Off-Axis-Spiegel und eine 8-Zoll-Standard-Feldlinseneinheit. Die optische Maschine basiert auf der Projektionsoptik und verwendet ein katadioptrisches Werkzeug, das eine minimale Bildaberration gewährleistet. Die Projektionsoptik hat eine Abbildungskapazität von 175 mm bis 5 mm, so dass sie verschiedene Arten von Mustern auf den Wafer schreiben kann. TWINSCAN XT 1250 D wurde entwickelt, um eine Vielzahl von Substraten wie Glas, metallische Folien und Quarzsubstrate zu handhaben. Es verfügt über einen 12-Kanal-Scanner, der zur Steuerung der Waferbewegung über das Lithographiefeld dient. Dieses Asset ist in der Lage, bis zu 10.000 um pro Sekunde zu fokussieren und kann auch Belichtungsunterdrückung und Musterkorrektur bewältigen. ASML TWINSCAN XT 1250 D ist auch mit einem fortschrittlichen Scanmodell ausgestattet, das hilft, die Belichtungszeit zu erhöhen und gleichzeitig die Ionenbildeigenschaften auszugleichen. Seine niedrige Profil Heizung Ausrüstung liefert eine gleichmäßige Temperatur auf der Waferoberfläche, Resistverbeugung zu reduzieren und die Belichtungsgenauigkeit zu erhöhen. Das eingebettete fortschrittliche elektrostatische Spannfutter hilft, einen konstanten Druck auf den Wafer aufrechtzuerhalten und ermöglicht eine schnelle und präzise Ausrichtung. Darüber hinaus ist TWINSCAN XT:1250D mit einer Hochleistungs-Prozesskammer ausgestattet, die Gas, Flüssigkeit und Wärme kontrolliert effektiv abführen kann, um Verschmutzungen zu reduzieren und die Gleichmäßigkeit zu maximieren. Es verfügt auch über eine enge Bandbreite Ionenquelle für verbesserte Musterqualität. Es ist ein hochautomatisiertes System und verfügt über ein hohes Maß an Prozesssteuerung sowie eine automatisierte Teilfeldplanung, die einen hohen Durchsatz und Wiederholbarkeit bietet.