Gebraucht ASML TWINSCAN XT 1700FI #293603594 zu verkaufen

ASML TWINSCAN XT 1700FI ist eine Photolithographie-Anlage zur Herstellung integrierter Schaltungen. Das System dient zur Belichtung von Mustern auf einem Halbleiterwafer. Es verwendet eine 193 Nanometer KrF Laserlichtquelle, um die Muster auf dem Wafer und den Halbleitern zu belichten. Die Einheit basiert auf einer Wafer-Stepper-Plattform, die aus einer Belichtungskammer, einem Belichtungskopf und einer Spur besteht. Der Belichtungskopf umfasst einen Laserbeleuchter, eine Projektionsoptik und einen Scanner. Der Laserbeleuchter emittiert einen schmalen Lichtstrahl, der mit der Projektionsoptik auf den Wafer fokussiert wird. Der Scanner bewegt dann den Wafer horizontal über den Laserstrahl und das Muster wird auf den Wafer freigelegt. ASML TWINSCAN XT:1700FI ist einer der leistungsstärksten Scanner der Branche, der Belichtungsgeschwindigkeiten bis 340 mm/s liefern kann. Es bietet Nanometer-Genauigkeit, mit einer Auflösung von 0,06 Micron und erhöhter Gleichmäßigkeit über das Belichtungsfeld. Der Belichtungskopf verfügt über 16 Vergrößerungsmöglichkeiten und eine programmierbare Blendenmaschine, die es Kunden ermöglicht, höhere Durchsätze und gleichmäßigere Folien als bisher möglich zu erreichen. Die fortschrittliche Kühlung, der geringe Platzbedarf und das einstellbare statische elektrische Feld tragen zusätzlich zur außergewöhnlichen Belichtungsleistung des Werkzeugs bei. Neben dem Scanner bietet TWINSCAN XT 1700FI verschiedene weitere Funktionen, die die Benutzerfreundlichkeit verbessern und die Betriebskosten senken. Die integrierte Wafer-Handling-Anlage ermöglicht eine automatisierte Wafer-Handhabung, wodurch die Bedienerarbeit reduziert wird. Durch das eingebaute Lade-/Entlademodell entfällt die Notwendigkeit einer separaten Ladestation, wodurch Kosten und Platzbedarf entfallen. Für die regelmäßige Wartung können mehrere Wartungsoptionen in die Geräte einprogrammiert werden, wodurch Ausfallzeiten und Betriebskosten reduziert werden. Das System ist für jede Art von Gerät geeignet, von digitalen zu analogen Schaltungen und von SRAM zu DRAM-Geräten. Es ist auch robust genug, um verschiedene Wafermaterialien zu handhaben. Darüber hinaus ist es kompatibel mit der neuesten Version der ASML proprietären Euv-Lithographie ASML-Software, die die bestmöglichen Ergebnisse gewährleistet. TWINSCAN XT:1700FI ist eine bemerkenswert vielseitige und zuverlässige Photolithographie-Einheit, mit der Anwender hochwertige Produkte kostengünstig herstellen können. Sein hoher Durchsatz und seine Genauigkeit können jedem Herstellungsprozess zugute kommen, was ihn zu einer idealen Wahl für jede Halbleiterherstellungsanlage macht.