Gebraucht ASML XT 1250 #9191912 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9191912
Wafergröße: 8"
Stepper, 8"
Wafer type: Notch
Laser model: GIGAPHOTON GT42A4 (20W)
Laser type: GIGAPHOTON Laser
FAT Attendance
OIU / Reticle wafer aux port: Left configuration
CSR's for XT1250B various: CSR 7603
FOUP Machine door sensor: No
PPD IRIS (CSR): No
CSR (AT Multilingual UI): No
Pellicle safeguard (CSR): No
CSR (LS M2M P2P): No
Active contrast control: No
Quasar: No
WH Carrier interface: (25) Wafers open cassette kit
Wafer track interface: SOKUDO RF3/200
Mark sensor
Integrated reticle library: No
IRIS-6 Inch reticles twinscan: No
DOE ID12 Low sigma
DOE MP2 35-X: No
DOE MP2 35-Y: No
DOE ID5 MP4 30-45: No
DOE ID2 MP4 20-45: No
Reticle CIDRW (Tag reader): No
FOUP Lockout system: No
DOE ID6 High sigma
Chuck dependent correction (CSR): No
Image streaming: Standard
Second laser paddle: No
CD-FEC: Standard
Lithoguide ILIAS: Standard
Wafer ID reader: No
MDL View: Site view
Athena narrow marks: Standard
Reticle barcode reader
Focus spot monitor: Standard
Reorder lot service: No
UNIVERSAL Prealignment: No
Recipe creator
Quasar XL: Standard
Automated reticle transport: No
Lot overhead reduction: LOR-2 / Standard
Machine specification for SWkey: B
Quasar XL: Standard
Dose mapper: Standard
Top package: Standard on XT:1400 (Top 2)
PEP for AT 1200B: No PEP package
DOE ID28 MP5 Soft quasar: No
DOE ID18 MP2 40-Y: No
DOE ID19 MP2 40-X: No
DOE ID31 MP4 40-45: No
DOE ID14 MP4 60-45: No
DOE ID21 MP4 45: No
EFESE: No
CSR L1L7 Type_1: No
ASF LS area extension: No
DOE ID9 MP4 20: No
IRIS Feature scan: No
Reticle shape correction
Twinscan wafer switch
DOE ID8 MP2 90-X: No
DOE ID7 MP2 90-Y: No
DOE ID13 MP4 30: No
PupMeas with ILIAS: No
CSR Proximity matching: No
ExpoSure: No
NA Extension / Diaphragm limiter: No
DOE ID29 MP2 60-X: No
DOE ID30 MP2 60-Y: No
Chemical sampling ports: No
ASF (LS Spot Coverage): No
System perf indicators focus: No
Equipment constants: No
BAM (Bandwidth analysis module): No
DOE ID20 Ultra low sigma: No
2D Barcode reader: No
ASF (E-chuck Flatness Qualification): No
Wait watcher: No
Reticle streaming: No
Best uniformity settings (BUSS): No
Grid mapper
Chuck dedication: No
Spot less: No
Module name Last value Status Unit Limit
Total shot 15825.9 - Mpulse -
Chamber 4344.8 36% Mpulse 12000
L/N Module 4345.9 31% Mpulse 14000
Fronut mirror 2260.7 16% Mpulse 14000
Monitor module 7443.7 74% Mpulse 10000
HG Lamp 6113 3% Cycle 200000
F2 Trap (C) 96.62 97% Cycle 100
F2 Trap (T) 5789.8 33% Hour 17520
Excimer shutter 356890 12% Cycle 3000000
Power: 400 V.
ASML XT 1250 ist ein in der Halbleiterindustrie für die Photolithographie verwendeter Waferstepper. ASML XT1250 verfügt über eine Reihe fortschrittlicher Technologien zur Herstellung extrem präziser Muster auf der Oberfläche von kreisförmigen Wafern. XT 1250 verwendet „Twin-Field-Optik“, die eine extrem präzise Ausrichtung zwischen Masken und Wafern während des Druckprozesses ermöglicht. Diese Technologie bietet Funktionen mit Submikron-Auflösung auf Wafern. Es verfügt auch über ein einzigartiges Mehrkanal-Interferometer, das extrem präzise Messungen von linearen Abständen bietet. XT1250 wird von einem Apexengine angetrieben, der weltweit schnellsten Multi-CPU-Plattform. Dadurch können große Wafer schnell und mit hoher Auflösung gedruckt werden. Es kann auch für verschiedene Anwendungen konfiguriert werden, von kleineren Wafern bis hin zu größeren Geräten. Das Apexengin ermöglicht schnellere Produktionszyklen, einen höheren Durchsatz und eine bessere Gleichmäßigkeit. ASML XT 1250 verfügt über ein dynamisches Fokuskompensationssystem (DFCS), das die Fokussiergenauigkeit während des Druckprozesses beibehält. Die DFCS-Technologie reduziert den Bedarf an manueller Refokussierung und garantiert einen stabilen Musterdruck. Die Software Specifier/Revealer der Maschine ermöglicht eine maßgeschneiderte Musterung auf Wafern. Diese Software kann Feldpositionen anpassen, um gleichmäßige, präzise Muster zu erstellen und kann auch dazu beitragen, Daten zu erhalten, ohne die Auflösung zu verlieren. ASML XT1250 verfügt zudem über eine ProFlux-Lösung, die eine optimale Flussversorgung der Waferoberfläche gewährleistet. Dieser innovative Ansatz erhöht die Ätzrate des Wafers, ohne die Qualität der Muster zu beeinträchtigen. Zusätzlich kann die ProFlux Konfiguration mehrere Wafer pro Job unterstützen, was Herstellern Zeit und Geld spart. XT 1250 ist ein fortschrittlicher Wafer-Stepper, der Herstellern fortschrittliche Lösungen und leistungsstarke Leistung bietet. Es bietet beispiellose Präzision, Genauigkeit und Zuverlässigkeit für den Druck von winzigen Funktionen auf Wafern. Der hohe Durchsatz der Maschine, kombiniert mit seinen fortschrittlichen Softwarelösungen, machen XT1250 zu einer idealen Lösung für Halbleiterhersteller, die Konstruktionszeiten reduzieren und gleichzeitig Erträge und Durchsatz verbessern möchten.
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