Gebraucht ASML XT 1250D #9391534 zu verkaufen

ASML XT 1250D Schritt-Oblate ist eine ultrahohe Leistungssteindruckverfahrenausrüstung, die entworfen ist, um das Mikroelektronik-Fertigungsverfahren zu beschleunigen. Es verwendet ein kurzwelliges, 248 nm KrF Laserprojektionssystem und ist in der Lage, gedruckte Bilder mit Auflösungen bis zu 0,13 Mikrometer zu erzeugen. Die Maschine kombiniert die bildgebende Leistung einer voll beladenen Scannereinheit mit der Geschwindigkeit eines kritischen Atomkraftmikroskops. Die Maschine wurde entwickelt, um die Herstellung von Schaltungsmustern auf integrierten Schaltkreisen, MEMS und Optoelektronik-Komponenten mit Auflösungsgenauigkeit bis zu 0,13 Mikrometer bei gleichbleibender Zuverlässigkeit und Durchsatz zu erleichtern. Es ist mit einer 5-Achs-Roboter-motorisierten Wafer-Bühne und einer zweidimensionalen Silizium-Retikel-Maske-Bühne ausgestattet. Die Maskenstufe kann sich in zwei Achsen mit einer Geschwindigkeit von 15,2 mm/s bewegen, und die Waferstufe kann sich in fünf Achsen mit einer Geschwindigkeit von 11,2 mm/s bewegen. Der Wafer-Stepper verfügt zudem über einen Bordreinraum mit Temperaturregelung, Luftfiltrationssystemen und aktiven Stickstoffsystemen. Die Optikmaschine der Maschine umfasst eine optische Laserquelle, eine optische Kondensatorkamera und eine bilderzeugende Linse. Darüber hinaus ermöglicht es die Intrafeld-Nähfähigkeit der Maschine, Muster auf verschiedenen Substraten zu bilden. XT 1250D Wafer Stepper kommt mit erweiterten Stabilisierungs- und Ausrichtungsfunktionen, die Wiederholbarkeit und genaue Ausrichtungsgenauigkeit während Wafer-Scan und Belichtung gewährleisten. Es verfügt auch über einen verbesserten Nanometer-Auflösungssensor, der Schritthöhen sowie Ausrichtungs- und kritische Maßmerkmale messen kann. Darüber hinaus verfügt der Stepper über ein hochpräzises Dosierwerkzeug, das es ermöglicht, Metalllinien und Kontakte mit hohem Seitenverhältnis aufzunehmen. ASML XT 1250D Wafer Stepper ist ein leistungsfähiges und effizientes Lithographie-Tool, das für verschiedene Anforderungen an integrierte Schaltungen, MEMS und optoelektronische Komponenten eingesetzt werden kann. Es bietet überlegene Bildgebungsleistung, Reinraumumgebung und zuverlässigen Durchsatz für die Serienproduktion von Schaltungsmustern auf Wafern. Diese Maschine ist ideal für Branchen und F & E-Organisationen in der Halbleiter-, MEM- und Optoelektronik-Industrie.