Gebraucht ASML XT 1400E #9289672 zu verkaufen
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ID: 9289672
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2005
Lithography system, 12"
SMIF / FOUP
ARF Scanner
Projection lens:
RMS Z5-Z37 : 3.16 nm
RMS Spherical: 1.62 nm
RMS Coma: 1.69 nm
RMS Astigmatism: 0.48 nm
RMS 3-Foil: 0.46 nm
Straylight at ref blocksize: 0.62%
Illumination:
Integrated slit uniformity setting: 0.44%
Illumination intensity setting: 1748 mW/cm2
Dose repeatibility: 0.199
Dose accuracy setting: 2.896
Pupil verification
Ellipticity setting: 1.879 mean
Focus and leveling:
Leveling verification:
Chuck to chuck focus difference: 5 nm
2005 vintage.
ASML XT 1400E ist ein Top-of-the-Line-Wafer-Stepper von ASML, einem Marktführer im Bereich der Halbleiterlithographie. XT 1400E ist eine hochmoderne Maschine, die präzise Mikrolithographie für die mikroelektronische Fertigung liefert. Die Maschine verfügt über eine Reihe fortschrittlicher Funktionen, die es ideal für hochpräzise Fertigungsaufgaben machen, wie z. B. das Belichten von Fotolack, um leitfähige Schichten auf Wafern, Schaltungsmustern und anderen Komponenten zu erstellen. ASML XT 1400E wurde entwickelt, um als einstufiges optisches Lithographiesystem unter Verwendung einer Kombination aus Lichtquelle, Linsen, Strahlteilern und einem Ausblendverschluss ein Muster aus einer Photomaske oder einem Retikel auf einen Wafer oder ein Testsubstrat zu erzeugen. Die Maschine ist mit einer Reihe von Lichtquellen ausgestattet, darunter KrF- und ArF-Excimerlaser, mit denen Bilder mit Submikron-Auflösung erzeugt werden können. Der Stepper kann auch in Verbindung mit einem optischen Kohärenztomographiesystem verwendet werden, wodurch der Anwender zu kleine Merkmale für ein Mikroskop optisch prüfen kann. XT 1400E ist außerdem mit einem Sensitive Precision Beam Alignment and Adjustment Tool (SPAT) ausgestattet, mit dem die Maschine den Schrittkopf genau fokussieren und über den Wafer bewegen kann. Das SPAT verwendet Laserinterferometrie und Feedback-Systeme, um die genaue Position des belichteten KEs sowie andere Parameter wie Linienbreite bereitzustellen. Dadurch kann die Maschine KEs mit Toleranzen von unter 1 nm herstellen. ASML XT 1400E ist auch mit CAM-Funktionen (Computer Automated Operation) ausgestattet, sodass Benutzer Betriebsparameter aus einer Datenbank speichern und ausführen können. Die Maschine ist auch mit einer Reihe von Photomasken, wie Quarz, Polycarbonat und Metallmasken kompatibel. Darüber hinaus können Benutzer aus einer Vielzahl von Bildformaten auswählen, einschließlich der Pro-Lithogen-Suite, sodass Benutzer eine Vielzahl von Aufgaben bearbeiten können. XT 1400E ist schnell und effizient mit einer Belichtungszeit von bis zu 20 Sekunden konzipiert. Die Maschine ist flexibel konzipiert und mit einer Reihe von vordefinierten Masken, optischen Systemen und Schrittköpfen kompatibel, so dass sie für eine Reihe von Anwendungen geeignet ist. Abschließend ist ASML XT 1400E ein Top-Wafer-Stepper, der präzise und effiziente Mikrolithographie für die mikroelektronische Fertigung liefert. Es ist eine hochmoderne Maschine, die eine Reihe von Funktionen bietet, einschließlich Submikron-Auflösungen, automatisierter Betrieb und einer Reihe von Masken und Bildformaten.
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