Gebraucht ASML XT 1400E #9383074 zu verkaufen

ASML XT 1400E ist ein produktiver und zuverlässiger Waferstepper von ASML. Es ist eine modulare Lithographie-Plattform, die sowohl unter Berücksichtigung der Produktivität als auch der Leistung entwickelt wurde. Es eignet sich besonders für schwierige Serienanwendungen wie 3D-Verpackungen und Geräteskalierungen für die fortschrittliche Knotenlithographie. XT 1400E Wafer Stepper basiert auf einer fortschrittlichen High-Power, Multi-Field eXtended Source (X-Source), die eine parallele, mehrwellige Beleuchtung erzeugt, die eine erhöhte Fokustiefe und verbesserte Platzierungsgenauigkeit bietet. Darüber hinaus ist es mit einer hochmodernen 4-Level-Vorausrichtung ausgestattet, die eine wiederholbare und ausgezeichnete Genauigkeit über mehrere Belichtungen hinweg gewährleistet. ASML XT 1400E verfügt zudem über eine ASML Hyper-NA-Optik, die eine hochauflösende Abbildung bis zur Grenzwellenlänge von 193nm und kleineren Linienbreiten ermöglicht. Dies gewährleistet hohe Ausbeute und Lithographie-Qualität für fortschrittliche Knotentechnologien. Darüber hinaus ist die Plattform mit Zoom Lens Gruppierung ausgestattet, die verbesserte Kohärenz Bandbreiten bietet. XT 1400E bietet darüber hinaus eine hervorragende Temperaturstabilität und CD-Gleichmäßigkeitskontrolle. Dies geschieht durch die integrierte thermische Steuerung. Dies schützt die bildgebenden Parameter des Geräts, auch wenn die Maschinentemperatur variiert, und gewährleistet eine gleichbleibend hohe Lithographieleistung. Weitere Funktionen von ASML XT 1400E sind die integrierte Advanced Pattern Development (APD) -Software, die alle wesentlichen Lithographie-Steuerungsfunktionen zu einer einzigen Plattform konsolidiert. Dies macht die Musterdatenvorbereitung mühelos und eliminiert viele der zeitaufwändigen Prozesse, die typischerweise mit der fortschrittlichen Knotenproduktion verbunden sind. XT 1400E ist ein hochentwickelter Wafer-Stepper, der erstklassige Leistung in anspruchsvollen Lithographieanwendungen garantieren kann. Die Kombination aus schnellem Durchsatz, überlegener Bildqualität, robuster Belichtungssteuerung, großer Tiefenschärfefähigkeit und umfassender Software-Unterstützung macht diese Plattform zu einer idealen Wahl für Kunden, die die Grenzen der Lithographie erweitern möchten.