Gebraucht ASML XT 1400F #9237068 zu verkaufen

ASML XT 1400F
Hersteller
ASML
Modell
XT 1400F
ID: 9237068
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
Immersion lithography system, 12" 2006 vintage.
ASML XT 1400F ist eine hochauflösende, großflächige maskenlose Lithographie-Ausrüstung, die für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterwerkzeuge entwickelt wurde. Es besteht aus einer hellen, eingebauten Lichtquelle, einer optimierten Projektionsoptik und einer präzisen nanoskaligen Stufe zur Substratmanipulation. XT 1400F enthält eine UV-Lichtquelle mit der Fähigkeit, Hochleistungsleitungen und Lichtbögen mit einer Wellenlänge von 193nm zu erzeugen. Dieser ultrapräzise Lichtstrom wird durch ein Raumfilter und optische Komponenten der Projektionsoptik auf die Waferbühne projiziert. Die Anzahl der Photonen und die Gleichmäßigkeit der Beleuchtung kann genau auf einzelne Anwendungen abgestimmt werden. Die Projektionsoptik wurde entwickelt, um eine unübertroffene Auflösung und Gleichmäßigkeit des Belichtungsfeldes über 12000 mm2 zu gewährleisten. Es verfügt über Multiplexkonfigurationen, verschiedene Größen von Linsen, Laserausrichtung und Fokusanpassungsfunktionen sowie ein integriertes Verschmutzungsreduzierungssystem, um eine saubere Umgebung zu bieten. Die nanoskalige Stufe ist speziell für Wafer bis 300mm Größe ausgelegt. Es bietet einen Bewegungsbereich von 200nm in X- und Y-Richtung und einen Z-Bewegungsbereich von 20nm, zusammen mit einer Scangeschwindigkeit von bis zu 5000mm/sec. Die Roboter-Wafer-Transfereinheit von ASML XT 1400F kann mehrere Wafer gleichzeitig handhaben und ermöglicht eine präzise Platzierung von Wafern auf der Bühne, ohne Verunreinigungen aus der Umwelt zu sammeln. Die erweiterten Steuerungs- und Messtechnik-Funktionen von XT 1400F absolute Genauigkeit und Wiederholbarkeit in der Produktion gewährleisten. Die Maschine verfügt über eine integrierte Reihe von Prozesssteuerungswerkzeugen für einen stabilen und zuverlässigen Betrieb. Darüber hinaus ermöglichen seine fortschrittlichen Feedback-basierten Algorithmen eine schnelle Anpassung des Expositionsprozesses an veränderte Umgebungen, eine verbesserte Prozesssteuerung und eine maximale Ausbeute. ASML XT 1400F ist ein effizientes, zuverlässiges und robustes Werkzeug für maskenlose Lithographie, das Wafer-Stepper-Leistung mit hohem Durchsatz, ausgezeichnete Overlay-Genauigkeit ohne Ausrichtmarken auf dem Wafer und unübertroffene Auflösung liefert.
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