Gebraucht ASML XT 1700Gi #9299038 zu verkaufen

ASML XT 1700Gi ist ein High-End-Wafer-Stepper, der für eine genaue Intra-Wafer-Strukturierung entwickelt wurde. Es verfügt über eine Doppellinsenprojektionssäule und ein maßgeschneidertes Beleuchtungswerkmodul, das eine numerische Apertur (NA) von 0,75 und eine Feldgröße von bis zu 1250 x 1750 mm liefert. Es wurde entwickelt, um mit Belichtungen von 6 bis 220mm Dicke verwendet werden, so dass es eine breite Palette von Verarbeitungsbereich. Das Bildgebungssystem des Steppers verwendet eine fortschrittliche Projektionslithographie, die ein Musterbild auf ein Substrat projiziert. Es hat auch einen Energiebereich von 6-23mJ/cm2, so dass es für die meisten neuen Mustermaterialien geeignet ist. Darüber hinaus ist es mit einer 3D semi-isotropen Polarisationskorrekturplatte ausgestattet, die es ermöglicht, Genauigkeit und Wiederholbarkeit bei ultravioletten (UV) Belichtungen zu liefern. Die Steuerung erfolgt über eine benutzerfreundliche, hochintuitive grafische Benutzeroberfläche (GUI). Die GUI ist in der Lage, komplexe Abläufe zu steuern und integriert sich in andere Module zur Mustergenerierung sowie zur Tracking-Diagnose. Es wird auch mit einer Hochleistungsmusteranerkennungsauswahl ausgestattet, ihm die Fähigkeit gebend, irgendwelche Fehler zu verfolgen und zu korrigieren, die vorkommen können. Der Stepper verfügt zudem über eine leistungsstarke Waferstufe, die Geschwindigkeiten von bis zu 200mm/s erreichen kann. Der Stepper ist auch in verschiedenen Konfigurationen erhältlich, sodass er nach Größe und Anwendungsbedarf angepasst werden kann. Es ist mit einem Umweltkontrollsystem ausgestattet, das die Luftreinheit im Inneren des Schrittes überwacht und aufrechterhält. Diese Überwachungsfunktionen ermöglichen es, die Verschmutzung niedrig zu halten, so dass die Maschine sicher und effektiv laufen kann. XT 1700Gi ist ein fortschrittlicher Wafer-Stepper, der genaue Intra-Wafer-Muster mit einem breiten Belichtungsbereich herstellen kann. Sein vielseitiges Beleuchtungsmodul und die 3D semi-isotrope Polarisationskorrekturplatte sorgen für Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Die einstellbare Geschwindigkeit in Kombination mit der benutzerfreundlichen GUI und der Umweltkontrolle machen die Maschine zu einer zuverlässigen und effizienten Wahl für jede Wafer-Musteraufgabe.