Gebraucht ASML XT 1950Hi #293802187 zu verkaufen
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ID: 293802187
Wafergröße: 12"
Lithography system, 12"
Load ports laser
Hard Disk Drive (HDD)
Immersion lithography: 193 nm
Resolution capability: 38 nm
Overlay:
SMO: 4 nm
MMO: 7 nm
Throughput: 148 WPH
CYMER XLR-560i
Resolution: 193 nm
Laser: 60 W / 6 kHz with E95 Bandwidth monitoring
Controls: UNIX / SUN Architecture
Aerial XP Illumination system
P type: Illumination alignment
Alignment: Blue align with narrow mark
Focus and Field-by-field levelling
Focus spot monitoring
Circuit Dependent Focus Edge Clearance (CD-FEC)
Dual E-Chucks
LS-MATCH2 (XT) Image streaming
Overhead reduction: 1 and 2
Productivity Enhancement Package (PEP)
In-situ metrology: Sensor module
UNICOM XT: Dose mapper ArF
(15) QUASAR XL Slots
Reticle shape correction
2DE Grid calibration
Twinscan overlay package
Water cooling for electronics cabinet
Integrated Reticle Library (IRL-XP) for H-SPEC Systems
Integrated Reticle Inspection System (IRIS-XT)
Reticle streaming: Spotless G and H
Twinscan Grid mapper
TEAL PCDU-XT1900 Distribution unit
FSM flex package
Aux port 300 mm FOUP / 25 Wafers
Reticle with defect: 40 nm
SMASH XY
ZEISS Starlight: 1950
XCDA Gas purification system:
Purifier canister: Optics series, 10 MH, SS
XCDA Gas purification system bypass manifold:
Manifold 3 Valve: 10 m
Filter housing
Cabinet
ESI Vaporsorb: EX2600
Filter set
Throughput: 148 WPH
CE Marked
Laser power: 60 W
Power conditioner: 135 kVA.
ASML XT 1950Hi ist ein modernster Wafer-Stepper für die Herstellung von hochvolumigen Halbleitern. Diese von ASML, einem führenden Anbieter von Photolithographie-Geräten, gebaute Ausrüstung stellt die neuesten Fortschritte in der Mustertechnologie dar und bietet extreme Präzision und Vielseitigkeit für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente. Herzstück von ASML XT1950HI ist die fortschrittliche Plattform, die innovative Hard- und Softwarelösungen kombiniert, um Sub-Nanometer-Genauigkeit in der kritischen Dimensionskontrolle zu ermöglichen. Diese Präzision ist für die Herstellung von Halbleiterbauelementen der nächsten Generation mit ständig schrumpfenden Merkmalsgrößen und erhöhter Komplexität unerlässlich. Eines der Hauptmerkmale von XT 1950Hi ist sein fortschrittliches Beleuchtungssystem, das mehrpolige Beleuchtungstechnologie verwendet, um eine gleichmäßige und hochauflösende Strukturierung über die gesamte Waferoberfläche zu erreichen. Diese Einheit ermöglicht die präzise Steuerung von Lichtintensität und Winkel, so dass komplizierte Muster mit hoher Treue strukturiert werden können. Zusätzlich zu seiner fortschrittlichen Beleuchtungsmaschine ist XT1950HI mit einem hochpräzisen Bühnenwerkzeug ausgestattet, das die Positioniergenauigkeit von Sub-Nanometern ermöglicht. Diese Stufe ermöglicht die präzise Ausrichtung des Wafers auf das Retikel, wodurch sichergestellt wird, dass Muster exakt von der Maske auf die Waferoberfläche übertragen werden. Um seine Leistung weiter zu verbessern, verfügt ASML XT 1950Hi über ein Hochgeschwindigkeits-Autofokusmodell, das den Fokus des Projektionsobjektivs schnell anpasst, um die optimale Bildqualität während der Belichtung zu erhalten. Dieses Merkmal ist wesentlich, um eine hohe Auflösung und Gleichmäßigkeit über den gesamten Wafer zu erreichen, insbesondere bei der Strukturierung komplexer Strukturen mit unterschiedlichen Tiefen. ASML XT1950HI ist auch mit einer fortschrittlichen Reticle Handling-Ausrüstung ausgestattet, die den schnellen und präzisen Austausch von Reticles während der Produktionsläufe ermöglicht. Diese Funktion ist entscheidend für die Minimierung von Ausfallzeiten und die Maximierung der Produktivität in Produktionsumgebungen mit hohem Produktionsvolumen. In Bezug auf die Produktivität bietet XT 1950Hi eine hohe Durchsatzfähigkeit, so dass Hersteller eine große Anzahl von Wafern pro Stunde mit außergewöhnlicher Ausbeute und Zuverlässigkeit produzieren können. Dieser hohe Durchsatz wird durch eine Kombination aus schnellen Belichtungszeiten, effizienter Bühnenbewegung und fortschrittlichen Automatisierungsfunktionen erreicht, die den Produktionsprozess rationalisieren. XT1950HI ist auch hochflexibel konzipiert und unterstützt eine breite Palette von Retikelgrößen und -typen, um unterschiedlichen Musteranforderungen gerecht zu werden. Diese Flexibilität ermöglicht es Herstellern, das System für eine Vielzahl von Anwendungen zu nutzen, von Logik- und Speichergeräten bis hin zu fortschrittlichen Verpackungstechnologien. Insgesamt stellt ASML XT 1950Hi einen bedeutenden Fortschritt in der Wafer-Stepper-Technologie dar und bietet branchenführende Präzision, Leistung und Produktivität für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente. Mit seinen fortschrittlichen Eigenschaften und Fähigkeiten ist dieses Gerät gut für die anspruchsvollsten Halbleiterherstellungsumgebungen geeignet, in denen extreme Genauigkeit und Effizienz von größter Bedeutung sind.
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