Gebraucht ASML XT 760F #9293671 zu verkaufen

ASML XT 760F ist ein Hochleistungs-Wafer-Stepper für photolithographische Prozesse. Die Maschine ist in der Lage, Sub-5-Nanometer-Auflösung zu erreichen und kann eine Reihe von Substraten handhaben, von kondensierter Kieselsäure, Quarz oder Saphirscheiben bis hin zu Dünnschicht-Silizium, Silizium-Germanium und Perowskit-Dünnschichten. Die Maschine ist mit einem fortschrittlichen Mustersystem ausgestattet, das für die Strukturierung bis in die kleinsten Funktionsgrößen ausgelegt ist. Die Hauptkomponenten von ASML XT:760F sind die fortgeschrittene Substratstufe, der Schrittregler, das Maskenausrichtmodul und das Hochgeschwindigkeits-Verarbeitungsmodul. Die fortschrittliche Substratstufe ist eine hochpräzise, mehrachsige bewegliche Stufe, die eine präzise und wiederholbare Positionierung des Substrats ermöglicht. Die Bühne ist in der Lage, eine Reihe von Substraten für die Strukturierung zu unterstützen und wurde entworfen, um Querachsenfehler zu minimieren. Darüber hinaus verfügt die Bühne über integrierte Kalibrierroutinen, die sich für Unvollkommenheiten oder Fehlstellungen der Substratform anpassen können. Der Schrittregler ist dafür zuständig, die Position der Stufe zu steuern und auf nichtlineare Bewegungsfehler und Ausrichtungsfehler einzustellen. Der Regler ist auch für die Steuerung der Belichtung der Wafer auf Basis der gewählten Prozessparameter zuständig. Schließlich verfügt der Controller über eine Autofokus-Funktion, um den genauesten Fokus auf die Bearbeitungsoberfläche für eine bestimmte Belichtungszeit zu gewährleisten. Das Maskenausrichtungsmodul bietet die Möglichkeit, genaue Ausrichtungsmarkierungen zu erzeugen und eine Neigungskompensation für nicht konzentrische Kreise oder verformte Formen durchzuführen. Das Modul wurde entwickelt, um Fehlstellungen zu minimieren und die Ausbeute jedes Produkts zu erhöhen. Schließlich ermöglicht das Hochgeschwindigkeits-Bearbeitungsmodul der Maschine, bei sehr hohen Geschwindigkeiten bis auf kleinste Funktionsgrößen zu mustern. Das Modul ist in der Lage, eine Belichtungszeit von 0,9 Sekunden zu erreichen, wodurch die Wartezeit zwischen den Belichtungen reduziert wird. Zusammenfassend ist XT 760 F ein Hochleistungs-Wafer-Stepper, der für photolithographische Prozesse entwickelt wurde. Die Maschine ist in der Lage, Sub-5 Nanometer Auflösung zu erreichen und kann eine Reihe von Substraten handhaben. Die fortschrittliche Substratstufe, der Schrittregler, das Maskenausrichtmodul und das Hochgeschwindigkeits-Verarbeitungsmodul machen ASML XT 760 F zur idealen Maschine für hochwertige photolithographische Produkte mit minimalen Wartezeiten zwischen den Prozessen.