Gebraucht ASML XT 760F #9311379 zu verkaufen

ASML XT 760F ist ein Wafer-Stepper, der in photolithographischen Anwendungen verwendet wird. Es verwendet eine Stief-Und-Mehrmaligbildaufbereitungstechnologie, die entworfen wird, um gestaltete Lay-Outs auf das Halbleitermaterial lithographisch zu übertragen. Zu den Hauptkomponenten gehören ein Stepper, eine Röntgenquelle, ein Aligner, eine Lithographielinse und eine optische Fokusausrüstung. Der Stepper ist das Herz der Maschine und funktioniert ähnlich wie ein Projektor. Es ist mit einer motorisierten x-y-Stufe, einem hochgenauen piezoelektrischen motorgetriebenen optischen Teilsystem und einer fortschrittlichen Lichtquelle ausgestattet. Die x-y-Stufe bewegt den Wafer schnell und präzise in seine gewünschte Position, so dass er der optimalen Lichtintensität und -richtung ausgesetzt werden kann. Der Piezomechanismus ermöglicht die Bewegungssteuerung der x-y-Stufe und die Fokussierung der Linsen, wodurch eine präzise Platzierung und Ausrichtung des Wafers auf das Lithographiemuster ermöglicht wird. Die Lichtquelle erzeugt UV-Strahlung und ist wellenlängenstabilisiert, was gewährleistet, dass sie mit jeder Belichtung konsistent bleibt. Das Ausrichtsystem sorgt dafür, dass der Wafer genau in Bezug auf das Muster auf der Fotomaske positioniert wird. Der Wafer wird über ein „Ausrichtungsraster“, ein Fadenkreuz und Marker, gescannt. Auf diese Weise kann die Maschine Abweichungen zwischen dem Wafer und dem Muster auf der Maske erkennen und berechnen und schnell die erforderlichen Anpassungen vornehmen, um sicherzustellen, dass das Muster genau übertragen wird. Die Lithographielinse ist die physikalische Komponente, die das UV-Licht durchläuft, bevor das Zielsubstrat bestrahlt wird. Es ist für die Bereitstellung der gewünschten Auflösung und Genauigkeit des lithographischen Musters verantwortlich. Die Linse enthält eine Reihe von Fokussierelementen, die es erlauben, das Licht zu formen. Die Linse kann auch kippen und drehen, um Verzerrungen auszugleichen, die durch die Oberfläche des darunterliegenden Wafers entstehen. Die optische Fokuseinheit sorgt dafür, dass die richtige Intensität und Auflösung während des gesamten lithographischen Prozesses erhalten bleibt. Es besteht aus einer Autofokussiermaschine, die die Brennposition der Abbildungslinse wiederholt überwacht, um sicherzustellen, dass sie immer optimiert ist, und einem Ultrahochleistungslaser, mit dem die Form des Lithographiemusters präzise verändert wird. Schließlich ist das Wafer-Handhabungswerkzeug für das Be- und Entladen des Wafers vom Substrattisch des Schrittschalters verantwortlich. Es ist mit Roboterarmen ausgestattet, die den Wafer greifen und sicher positionieren können, und eine rotierende Plattform, auf der der Wafer platziert werden kann. Das Wafer Handling Asset ist hochpräzise und effizient und sorgt für eine sichere Beladung des Wafers, so dass der Belichtungsprozess schnell beginnen kann.