Gebraucht ASML XTII / 1400F #9401145 zu verkaufen

ASML XTII/ 1400F ist ein Waferstepper, ein Gerät, das in der Mikroelektronikindustrie zur Herstellung von Halbleiterbauelementen eingesetzt wird. Es ist ein fortschrittliches Lithographie-Tool, das einen Strahl von ultraviolettem Licht verwendet, um Muster von einem Retikel seriell auf ein lichtempfindliches Substrat zu übertragen. XTII/ 1400F ist ein KrF-Stepper, der eine Wellenlänge von 248 nm hochenergetisches KrF-Excimer-Laserlicht verwendet, um ein Muster auf einen mit einer spezifischen lichtempfindlichen Substanz beschichteten Wafer zu projizieren. Dieses Verfahren wird als Schritt-und-Wiederholungs-Lithographie bezeichnet. Der Stepper umfasst mehrere Schlüsselkomponenten, darunter eine Beleuchtungsquelle, eine Projektionsoptik, eine Retikelstufe, eine Waferstufe und einen Scanner. Die Beleuchtungsquelle von ASML XTII/ 1400F ist der KrF Excimerlaser. Dieser Laser emittiert einen ultravioletten Lichtstrahl durch eine Schlitzblende in der Retikelmaske. Der Strahl durchläuft eine Öffnung, die dem gewünschten Muster auf dem Retikel entspricht. Das Linsensystem leitet dann das Licht auf das Zielsubstrat. Die Retikelstufe von XTII/ 1400F ermöglicht eine präzise Positionierung des Retikels relativ zum Wafer für eine präzise Ausrichtung des optischen Bildes. Die Waferstufe ermöglicht eine präzise Bewegung des Wafers relativ zu dem auf ihn projizierten optischen Bild. Der Scanner, eine Kombination aus zwei Fokussierspiegeln und zwei Galvanometerspiegeln, dient dazu, das Feld des Retikelmusters präzise über das Substrat zu fegen. ASML XTII/ 1400F arbeitet mit einer Geschwindigkeit von bis zu 4 Wafern pro Stunde, mit einer Auflösung von bis zu 140nm. Es hat eine breite Musterfeld Größe von 10mm bis 200mm, so dass es geeignet für die Herstellung von Mustern verschiedener Größen auf verschiedenen Substraten. Der Stepper kann mehrere Substrate aufnehmen und bietet die Flexibilität, neu programmiert zu werden, um zahlreichen verschiedenen Anwendungen gerecht zu werden. Um eine präzise Platzierung und Gleichmäßigkeit der Muster auf dem Substrat zu gewährleisten, ist XTII/ 1400F mit zahlreichen Funktionen wie programmierbarer räumlicher Verzerrungskorrektur, Ausrichtungskameras, Overlay, Bühnenvibrationskontrolle und einer anspruchsvollen computergesteuerten Plattform ausgestattet. Diese Eigenschaften machen ASML XTII/ 1400F zu einer idealen Wahl für Anwendungen in der Halbleiter-, Wissenschafts- und Medizinindustrie.