Gebraucht ASML XTII / 1400F #9401147 zu verkaufen

ASML XTII/ 1400F Wafer Stepper ist eine hochspezialisierte Lithographie-Ausrüstung, die in der Halbleiterherstellung verwendet wird. Es ist ein modernes Werkzeug, mit dem hochkomplexe, nanoskalige Strukturen auf einem Silizium-Chip erzeugt werden. XTII/ 1400F ist ein Step-and-Scan-System, das eine Off-Axis-Bildgebungstechnik verwendet, um Funktionen im Nanometermaßstab auf einem Substrat zu erstellen. Es hat eine numerische Apertur (NA) von 0,77, die es ermöglicht, Funktionen bis zu 28nm Linienbreiten und 16nm Tonhöhen zu drucken. Die Maschine ist mit einem Vollfeld-Retikel mit einem großen Durchmesser von 14 "und einer Musterdichte von 3,2 Megapens/cm2 ausgestattet. Dies ermöglicht einen hohen Durchsatz und eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit von Druck zu Druck. Die Systemarchitektur von ASML XTII verfügt über zwei unabhängige Scan-Achsen, die eine schnellere Belichtungszeit ermöglichen. Es hat eine Belichtungsfeldgröße von 8 „x 8“ mit einer hohen Rahmengenauigkeit von +/- 0,1 um. Die Maschine enthält auch einen Remapping-Algorithmus und ein Mustererkennungssystem, um die Ausrichtungsgenauigkeit und den verbesserten Durchsatz zu gewährleisten. ASML XTII/ 1400F wird von der ASML TwinScan-Technologie angetrieben, die einen hocheffizienten und wiederholbaren Prozess bietet. Mit dieser Technologie kann die Maschine Belichtungsparameter wie Dosis, Fokus und Ausrichtung in Echtzeit anpassen. Darüber hinaus ermöglicht TwinScan™ dem Benutzer auch die Programmierung anpassbarer Rezepte sowie die Optimierung des Waferdurchsatzes und der Werkzeugproduktivität. XTII/ 1400F Wafer Stepper kommt mit einer intuitiven Benutzeroberfläche, die direkten und einfachen Zugriff auf wesentliche Funktionen und Einstellungen bietet. Die Maschine ermöglicht den Plug-and-Play-Betrieb, was eine minimale Betriebseinrichtung erfordert. Darüber hinaus kann es einfach für den Einsatz in Ätz- und sauberen Prozessen konfiguriert werden. Insgesamt bietet der ASML XTII/ 1400F Wafer Stepper eine robuste Lithographie-Plattform mit unübertroffener Bildqualität und Gleichmäßigkeit. Diese Maschine ist eine ideale Wahl für Chiphersteller, die nach hohem Durchsatz, wiederholbarer Leistung und flexiblem Betrieb suchen.