Gebraucht CANON 52 #9284911 zu verkaufen

CANON 52 ist ein Wafer-Stepper der Firma CANON Inc., der in der Halbleiterindustrie für Lithographiezwecke verwendet wird. Diese Maschine hat die Fähigkeit, ein Bild mit einer Vergrößerung von 5X bis 75X auf den Wafer zu projizieren, unter Verwendung einer Belichtungsoperation, die die Abbildungsprinzipien einer hochauflösenden optischen Ausrüstung und eines fortgeschrittenen Halbleitermustergenerators kombiniert. Das System ist mit einer Vielzahl von integrierten Funktionen konzipiert, um eine hohe Präzision im Ergebnis des Lithographie-Prozesses zu gewährleisten. Es verfügt über eine Positionsmeßeinheit (PMS), die Informationen über den Motor, die Position der Stufen, die Bewegungsrichtung und die Ausrichtungsbedingungen integriert, um eine höhere Genauigkeit im Belichtungsvorgang zu erreichen. Die Maschine enthält auch ein Contortion Compensation Tool (CCS), das das Design der hydro-statischen Stufe ausnutzt, um Vibrationen zu reduzieren und eine Bildgebung höherer Auflösung zu ermöglichen. 52 weist ferner eine Belichtungseinrichtung auf, die einen Bereich von numerischen Aperturen (NAs) und Wellenlängen verarbeiten kann, um die Lichtausnutzung zu maximieren. Das Asset enthält außerdem eine Sensor Enhanced Technology (SET), die ein aktives Auto-Alignment-Management ermöglicht und die Expositionsbedingungen basierend auf Wafer-Eigenschaften steuert. Dies gewährleistet eine genaue Bildbelichtung während der gesamten Produktion. Das Modell ist mit einer autofokussierenden Ausrüstung für hochpräzise und schnelle Fokussierung ausgestattet, um eine Vielzahl von Waferhöhen zu erreichen. Dieses Autofokussiersystem ist ein Opto-Mechatronic Design, das eine Echtzeit-Turbulenzkompensation bietet. Das Gerät verfügt auch über einen Interferometer-Wellenfrontsensor, der verwendet wird, um Änderungen in der optischen Verzerrung der Wellenfront zwischen dem Wafer und der Optik zu messen und zu detektieren, was eine genaue Belichtung ermöglicht. CANON 52 ist in der Lage, eine breite Palette von Wafergrößen von 1 Zoll bis 8 Zoll zu handhaben, und die Maschine hat eine Kapazität von 1.000 Wafern pro Stunde. Der Belichtungsmodus unterstützt die Belichtung von Schritten, Wiederholungen und Scans mit einem vollautomatischen Tool zur Fehlererkennung und -korrektur, mit dem Belichtungsfehler vermieden werden können. Zusätzlich zu diesen Funktionen bietet 52 auch ein hohes Maß an Prozessverständnis durch erweiterte Musteroptimierung und -analyse. Damit können Hersteller Wafer optimieren und Belichtungsparameter anpassen, ohne mehrere Belichtungsläufe durchführen zu müssen. Diese Prozessoptimierungsfähigkeit verbessert die Effizienz, reduziert Abfall und steigert die Ertragsraten.