Gebraucht CANON FPA 121 #9177558 zu verkaufen

CANON FPA 121 ist ein Wafer-Stepper, der im Photolithographieverfahren für die Halbleiterherstellung verwendet wird. Es ist ein fortschrittliches, leistungsstarkes Stufen- und Wiederholbelichtungsgerät mit einer 8-Zoll (200mm) -Wafergröße. FPA 121 hat eine hohe numerische Apertur (0,75) für höhere Auflösung und verbessertes Ätzen. Ein dynamisches Scan-System (DSS) ermöglicht eine schnelle, hochpräzise Musterübertragung durch Scannen der Bühne mit bewegten Spiegeln. Diese Technologie gewährleistet auch eine genaue Platzierung und Ausrichtung auf dem Wafer unabhängig von seinen Eigenschaften oder der Anzahl der Muster. CANON FPA 121 hat einen erhöhten Durchsatz von 1,4 Wspm (Wafer pro Stunde) mit einer einzelnen Wellenlängen-Beleuchtungseinheit und eine konstante Leistung, auch bei hohen Durchsätzen. Es bietet auch fortschrittliche Technologien wie automatische Belichtungssteuerung, Punkt-zu-Punkt-Nähen und schnelles Scannen über die gesamte Waferoberfläche. FPA 121 hat ein gewölbtes Maskenfutter, das die Verzerrung des Maskensubstrats reduziert, und einen erweiterten Maskenausrichter mit einem breiten Messbereich von 175 µm. Es hat auch eine geringe Kontamination mit einer Ionenimplantatoption und einem sechsachsigen Winkeltisch. Der fortschrittliche Stepper hat eine verbesserte Auflösung von 32nm, so dass Muster genau und schnell geätzt werden können. Es verfügt auch über eine API-Maschine (High Performance Automatic Inspection), die die Genauigkeit des Fehlerortes und die Inspektionsgeschwindigkeiten verbessert. CANON FPA 121 verfügt über eine schnelle Anflugeinheit, die sich schnell zwischen zwei Punkten in der X-, Y- und Z-Achse bewegen kann und ein hochpräzises Maskenlayout ermöglicht. Mehrere Module können zu einem einzigen Schritt-und-Wiederholwerkzeug zusammengefasst werden, wodurch es für verschiedene Produktionslinien-Anwendungen geeignet ist. Zusammenfassend ist FPA 121 ein hochleistungsfähiges Step-and-Repeat-Exposure-Asset, das einzigartige Funktionen wie eine hohe numerische Apertur, ein dynamisches Scan-Modell, einen erhöhten Durchsatz, fortschrittliche Technologien, eine geringe Kontamination, eine verbesserte Auflösung und eine schnelle Anflugeinheit bietet. Es eignet sich für verschiedene Halbleiterfertigungslinien und ist so konzipiert, dass es eine präzise, schnelle Musterätzung ermöglicht.