Gebraucht CANON FPA 1550 M IV-W #9296891 zu verkaufen
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CANON FPA 1550 M IV-W Wafer Stepper ist ein High-End-Lithographie-Werkzeug entwickelt, um komplexe Mikrostrukturen in einer wiederholbaren, zuverlässigen Weise zu produzieren. Im Kern eine 6-Zoll-Photolithographie-Plattform, die ein programmierbares Beleuchtungssystem, Mikrometer-Level-Stufen und Hochdurchsatz-Optik kombiniert. Dies ermöglicht die zuverlässige Musterübertragung kleinster optischer Elemente mit einer in der Industrie unerreichten Genauigkeit. CANON FPA 1550 MIV-W Wafer Stepper verwendet optische Elemente mit hohem Durchsatz für die genaue Abbildung kleiner Funktionen bis zu 60 nm. Das Beleuchtungssystem verfügt über austauschbare Lichtquellen und der vielseitige Wellenlängenbereich von 434 nm bis 590 nm ist an die Eigenschaft des Resists anpassbar. Die fortschrittliche Aberrationskorrektur sorgt für eine gleichmäßige Ausleuchtung der Waferoberfläche mit minimierten Wellenfrontfehlern und bietet eine überlegene Bildauflösung und -treue während der Belichtung. Die Positionierstufen FPA-1550 MIV-W Wafer Stepper sind so konzipiert, dass sie eine breite Palette von Bewegungsbewegungen mit einem größeren als üblichen Arbeitsraum bieten. Mit einer Mindestschrittweite von 0,05 μ m und einer Mindestschrittzeit von 30 msec können CANON FPA-1550 MIV-W eine hochpräzise Ausrichtung von Mustern mit höchster Genauigkeit erreichen. Die Waferstufe weist sowohl X-Y als auch orthogonale Rotationen (θ) auf, um eine nahtlose Kontrolle über den Wafer während der Belichtung zu ermöglichen. Die Scanner-Optik von FPA 1550 MIV-W bietet 4x bis 60x Vergrößerungen und der numerische Aperturbereich von 0,25 bis 0,7 ermöglicht Nahfeld-Bildgebungsfunktionen für topologische Merkmale. Darüber hinaus sind die Optik für die Reproduktion lichtempfindlicher Materialien mit hohem Kontrast, Definition und Treue ausgelegt. FPA 1550 M IV-W Wafer Stepper ist ein komplettes Lithographiewerkzeug und kann nahtlos zwischen Einzel- und Doppelbelichtungsmodus wechseln. Das Tool bietet auch automatische Dosissteuerung und Autofokus-Algorithmen, die beispiellose Wiederholbarkeit und Durchsatz bieten. Darüber hinaus ist die Maschine so konzipiert, dass sie einfach in eine Prozessumgebung integriert werden kann und eine automatisierte Vollwaferinspektion und -validierung ermöglicht. CANON FPA 1550 M IV-W Wafer Stepper ist ein einzigartiges und leistungsstarkes Werkzeug, das speziell für die Bedürfnisse der heutigen CMOS Fabs entwickelt wurde. Mit ihrem hohen Durchsatz, ihrer Genauigkeit und Präzision eignet sich die Maschine gut für die Anforderungen moderner Halbleiterlithographieverfahren und ist damit die perfekte Wahl für anspruchsvolle Fertigungsszenarien.
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