Gebraucht CANON FPA 1550 MARK IV-W #293589762 zu verkaufen

ID: 293589762
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1995
i-Line stepper, 6" HP1000 PC Jeida standard wafer Wafer type: OF Reticle, 5": QUARTZ Material type Changer type: CANON Changer type-2 Case type: CANON Changer type-1 Optical system: UL21-LS Lenz type Magnification: 1/5 Field size: 22 mm Illumination system: Light source: Ultra-high pressure mercury lamp, 2.0 kW Light control: Estimate exposure total Masking function: (4) Independent blades Wafer loader: Type-1 / Type-2 Alignment light / HeNe Laser / HeCD Laser Wafer alignment: Type-1 / Type-2 System / HeNe Laser image processing / HeCD Laser sensor Mode / AGA Reticle alignment: Type-1 / Type-2 Alignment light / g-Line System / g-Line, TV image processing XY Stage: Type-2: Rolling around type Automatic focus: Type-2: LED PSD OPTF, 5-Channels Wafer leveling: Type-2: 3 Points drive global / Die by die leveling system Mechanical pre alignment: Type-2: Peripheral noncontact system TV Pre alignment: Type-1 / Type-2 System / OFF-Axis TV Image system Carrier / (2) Loaders/(2) Unloaders Chamber: Type: TBW-CD-30W Cooling system: Refrigeration unit/Heater control Set temperature: Booth:21℃ Stage/Lenz: 23°C Reticle feeder: (14) Store reticles CCD Camera Inline: Stand alone Signal tower HeNe Laser missing 1995 vintage.
CANON FPA 1550 MARK IV-W ist ein hochmoderner Wafer-Stepper, der mit fortschrittlicher Bildgebungstechnologie präzise Präzisionsstrukturen und -komponenten bis auf Mikroniveau herstellt. Diese integrierte Ausrüstung bietet eine Reihe von anspruchsvollen Funktionen, wie hohe NA-Schritt-und-Scan-Lithographie, Sub-Mikron-Ausrichtungsgenauigkeit, inkrementelle Bühnenbewegung, einen erweiterten Auflösungsbereich und eine erweiterte minimale Funktionsgröße. Es ist auch mit einer modularen Architektur konzipiert und kann auf spezifische Bedürfnisse erweitert werden. CANON FPA 1550 MARK IVW bietet eine hohe NA Step-and-Scan Lithographie zur Herstellung von individuellen Layouts für komplexe Strukturen und Komponenten. Diese Funktion ermöglicht die schnelle Erzeugung von genauen und wiederholbaren Bildern mit einer maximalen Beschleunigung der 7Gs. Der hohe NA und kontinuierliche Scan-Betrieb des Systems bietet eine ultrafeine Auflösung bis zum Sub-Micron-Niveau und einen erweiterten Auflösungsbereich von 6,5 bis 25 nm. FPA-1550 MARK IV-W hat eine Ausrichtgenauigkeit von 1 Mikron, die in CANON Micromage Advanced Alignment-Unit integriert ist. Diese wird durch eine hocheffiziente Kombination aus segmentierter Beleuchtung und kollimierter Flächendetektion angetrieben. Dadurch kann eine breite Palette von Substratmaterialien wie Silizium, Glas und Quarz exakt ausgerichtet und verarbeitet werden. Die komplette Maschine hat eine modulare Architektur, so dass sie mit bis zu 10 Schrittstufen mit einer maximalen Auflösung von 256 nm ausgestattet werden kann. Die Komponenten verfügen über einen integrierten Speicher, der Positionsinformationen und Merkmalsdaten speichert, um eine genaue Platzierung der Komponenten zu gewährleisten. Diese Funktion reduziert mögliche Fehler und beschleunigt die Produktion. CANON FPA-1550 MARK IV-W kann verschiedene Substrate mit minimaler Verzerrung und einer erweiterten minimalen Merkmalsgröße von 0,2 Mikron aufnehmen. Es ist mit CANON MicroMirror Vibrationsisolation und CASA (Constant Acceleration Stress Absorber) Filter ausgestattet, die das Risiko von Vibrationen und Bildverzerrungen effektiv reduzieren. Insgesamt ist der FPA 1550 MARK IV-W ein hochmoderner Stepper, der präzise Strukturen und Komponenten mit Submikron-Auflösung und -Genauigkeit herstellen kann. Es verfügt auch über ein erweitertes Ausrichtungstool, eine modulare Architektur und eine Schwingungsisolierung, um optimale Ergebnisse in einer minimalen Zeitspanne zu gewährleisten.
Es liegen noch keine Bewertungen vor