Gebraucht CANON FPA 1550 MARK IV-W #9033673 zu verkaufen

CANON FPA 1550 MARK IV-W, ein Wafer Stepper, ist eine vollautomatische Lithographie-Ausrüstung, die entwickelt wurde, um hochpräzise Eigenschaften auf zerbrechlichen Substraten zu produzieren. Diese Maschine ist in der Lage, Merkmalsgrößen bis zu 25 nm Linienbreite zu erreichen, so dass die Herstellung von Halbleiterintegrierten Schaltungen, MEMS-Bauelementen und anderen ähnlichen Produkten möglich ist. CANON FPA 1550 MARK IVW verwendet fortschrittliche optische Systeme und ein einzigartiges Dual-Source-System, um sowohl ein regelmäßiges als auch ein umgekehrtes Bild zu erzeugen, was eine verbesserte Belichtungsintegrität ermöglicht. Unter Verwendung elektrostatischer und magnetischer Felder ist es in der Lage, die Position und Orientierung des Substrats hochgenau zu steuern. Dies wird weiterhin mit einer hochintensiven Belichtungslichtquelle und einer Reihe von Linsen mit einer breiten numerischen Apertur kombiniert. Diese Einheit umfasst auch eine automatisierte Ausrichtmaschine, die einen zweistufigen Prozess verwendet. Es verwendet ein Grobausrichtungs-Scanwerkzeug, um schnell die richtige Ausrichtung zu ermitteln und enthält auch ein Feinausrichtungs-Scanobjekt, das verwendet wird, um die Ausrichtung der Wafer und des Substrats fein anzupassen. Dies ermöglicht die präzise Erfassung von Bildern auf dem Substrat. FPA-1550 MARK IV-W ist zudem mit einem fortschrittlichen Heiz- und Kühlmodell ausgestattet, das eine präzise Regelung der Substrattemperatur gewährleistet. Dies gewährleistet eine optimale Leistung von Photoresists auch bei großen Temperaturänderungen. Insgesamt ist FPA 1550 MARK IV-W eine hochentwickelte Lithographieausrüstung, die in der Lage ist, hochpräzise Eigenschaften auf empfindlichen Substraten mit Funktionsgrößen von 25 nm oder kleiner zu erzeugen. Durch die Verwendung eines Dual-Source-Systems, automatisiertes Alignment-Scanning und einer Stufenheiz- und Kühleinheit ermöglicht diese Maschine gleichbleibend hohe Qualitätsergebnisse.