Gebraucht CANON FPA 2000 i1 #9033674 zu verkaufen

CANON FPA 2000 i1 ist ein Wafer-Stepper, der 2005 veröffentlicht wurde und für hochpräzise Anwendungen konzipiert ist. Es ist eine step-scan Steindruckverfahrenaussetzungsausrüstung, die Fähigkeiten zur hohen Produktivität und Bildgleichförmigkeit hat. Es wird im fortgeschrittenen Halbleiterphotolithographieverfahren eingesetzt. Es hat elektro-optische Technologie auf die erfolgreiche FPA-2000 Plattform angewendet, was zu zwei Produktionsmodellen führte, CANON FPA2000-I1 und der FPA-2000 i3. FPA-2000I1 Modell verfügt über ein Beleuchtungssystem des reduzierten Außenfeldastigmatismus (ROA) und eine Ausrichtungseinheit der symmetrischen Ausrichtungsmaschine (SAS), während das FPA-2000 i3-Modell den Synchronous Double Pattern Generator (SDPG) enthält. Der CANON FPA-2000 I1 Wafer Stepper besteht aus fünf Hauptkomponenten: einem Beleuchtungswerkzeug, einer Projektionsoptik, einem Ausrichtungsmodell, einem Retikelwerkzeug und einem Wafer-Bühnensystem. Die Beleuchtungseinheit, die aus einem Laser, einer Lichtfalle und einer Kombination von brechenden und/oder reflektierenden optischen Komponenten besteht, dient zur Erzeugung von Licht und zur Ausrichtung auf das Retikel. Die Projektionsoptik-Maschine, die eine asphärische Linse und andere Komponenten umfasst, dient dazu, das Bild vom Retikel auf den Wafer zu projizieren. Das Ausrichtwerkzeug besteht aus linearen Wegsensoren, die die X-, Y- und Theta-Positionen eines Retikels erfassen können. Das Retikelwerk besteht aus einem Retikelwechsler, einer Retikelbibliothek und einem Wärmetauscher. Das Wafer-Bühnenmodell, das aus einem Scanner und einer X-Y-Bühne besteht, wird verwendet, um den Wafer in X-, Y- und Z-Richtung zu bewegen. FPA-2000 I 1 hat eine Feldgröße von 4 Zoll (100mm) und eine Schussgröße von bis zu 4 Zoll (25,6 mm). Es erreicht eine hohe Genauigkeit in der Schuss-zu-Schuss-Überlagerung (< 3 µm Schuss-zu-Schuss) und 30 nm Linienbreiten. Der Stepper hat auch die Fähigkeit, wiederholbare Belichtungsfähigkeit für Waferläufe von bis zu 3 Millionen Schüssen ohne manuellen Eingriff. Insgesamt ist der CANON FPA-2000 I 1 Wafer Stepper eine zuverlässige, hochpräzise Lithographie-Belichtungsanlage für die Halbleiterverarbeitung. Es bietet effizienten Durchsatz, hohe Genauigkeit und wiederholbare Prozesssicherheit. Es ist ein ideales System für fortgeschrittene Halbleiterprozesse.