Gebraucht CANON FPA 2000 i1 #9134789 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9134789
Wafergröße: 6"
Stepper, 6"
Wafer type: semi flat
Wafer chuck type: LC ring chuck
Track interface: DNS
Auto-feeder (in-line direction): Left, Type 2
Altitude: X m
Signal tower: yes
CE mark (Europe): yes
Edge beam removal: no
Reticle changer:
Reticle size: 5", type 2 with 14 slots
Reticle bar code reader: yes
Library slot number: 14
Workstation:
Workstation model: HP1000
Software:
Main software version: V5.25B
Gem software version: SECS
Facility requirements:
Main electrical supply: 3 Phase, 415 VAC
Exhaust
1x Heat exhaust for chamber
2x Control rack
(Setting 0.5 inc to 2 inc H2O)
CDA Supply: 3X 100psi
Cooling water supply: cooling Water in (pressure=1to5 kg/cm2)
Vacuum: 3X vacuum setting ≤ 550 mm Hg
Drain: 1X drain for chamber aircodition system
Chamber:
Chamber type: TBW-CD-50W
Wafer feeding unit:
Type of wafer feeding unit: Type II
Wafer size: 6"
Carriers: double carriers
Flat/notch finder: flat
Method: non-edge contact, back side holding
XY stage: 6" sliding stage
Tilt stage: yes
Reticle changer system: Type II with 14 slots
Size: 5" Reticle
Reticle alignment system: TV image processing with FRA2 mark
Alignment source: g-line
HeCd laser: No
Auto wafer alignment system:
Auto alignment source: HeNe Laser (1 for X, 1 for Y)
Method: through the len off axis auto alignment
Mode: die and die and AGA
Projection lens:
Magnification: X 1/5
Numerical aperture: 0.55
Illumintor:
Light source: 1 KW Hg Lamp
Exposure time control: light integrator
Masking function: variable with 4 independent masking blades
Auto focus:
Method: optical auto focus
Other: auto compensation for barometric pressure change
Mechanical prealignment: non-edge contact
TV prealigment: TV image processing
Monitor display: LCD.
CANON FPA 2000 i1 ist ein Wafer-Stepper, eine Art Photolithographie-Instrument, das verwendet wird, um spezifische Muster an den Rändern von Halbleiterscheiben zu erzeugen. Es ist in der Lage, Wafer-Muster mit hoher Präzision und Genauigkeit in einer breiten Palette von Größen zu produzieren. CANON FPA2000-I1 hat eine große, 3 bis 5 µm große Feldgröße und kann automatische Mustergeneratorausrichtung und Waferausrichtung in einem effizienten, Hochgeschwindigkeitsbetrieb durchführen. Die in FPA-2000I1 verwendete Photolithographie basiert auf der Flex-Track-Technologie, einer einzigartigen CANON-Funktion, die eine variable Biegesteifigkeit aufweist und für jede Anwendung feinjustiert werden kann. Dies ermöglicht eine hochpräzise Belichtungssteuerung sowie eine schnelle, genaue Ausrichtung und Heftung für die anspruchsvollsten Halbleitermuster. CANON FPA 2000 I 1 ist zudem mit einem Multibelichtungsfeature ausgestattet, das eine verbesserte Mustereinheitlichkeit ermöglicht. CANON FPA-2000I1 verfügt über ein automatisiertes Belichtungsgerät, einschließlich Beleuchtung, optische Messtechnik, Kantenerkennung und einen vollautomatischen, geschlossenen Belichtungsprozess. Es ist für den kontinuierlichen Betrieb ohne manuellen Eingriff ausgelegt und kann eine kritische Musterkontrolle mit einer einzigen Belichtung erreichen. Das System ist mit einem Luftvorhang und einer ausgeklügelten Luftregelung ausgestattet, die Verschmutzungen reduziert, was für die Erzielung sauberer, hochauflösender Muster unerlässlich ist. FPA 2000 i1 bietet auch vielseitige Musterfunktionen. Die Einheit kann binäre Auflösungsmuster und dichte Linien mit hoher Genauigkeit freilegen, und es kann auch verwendet werden, um kreisförmige oder serpentine Muster zu bilden. Das Instrument hat auch die Fähigkeit, mehrere Muster auf einem einzelnen Wafer im Laufe der Zeit zu integrieren. FPA-2000 I 1 enthält mehrere integrierte Sicherheitsfunktionen. Seine motorisierte Stufe ist eingeschlossen und temperaturgesteuert, um eine stabile Umgebung zu erhalten, während seine robotergesteuerten Stufen Verschiebung und Orientierung steuern, um eine genaue Belichtung zu gewährleisten. Eine Not-Aus-Taste ermöglicht es, unbefugte Zugriffsversuche zu blockieren. Zusammenfassend ist CANON FPA-2000 I1 ein hochpräziser Wafer-Stepper mit fortschrittlichen Funktionen, die hervorragende Leistung und Zuverlässigkeit bieten. Die Flex-Track-Technologie und die Mehrfachbelichtungsmaschine machen es zu einem idealen Werkzeug für jede Wafer-Musteranwendung und die eingebauten Sicherheitsmaßnahmen sorgen für einen sicheren Betrieb.
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