Gebraucht CANON FPA 2500 i2 #9238502 zu verkaufen

CANON FPA 2500 i2 ist ein vollautomatischer Hochdurchsatz-Stepper zur photolithographischen Verarbeitung von Halbleiterscheiben. Das Gerät besteht aus einem fortschrittlichen optischen All-Reflexion-System mit großem Arbeitsabstand und einer hohen numerischen Apertur (NA). Damit kann das Gerät Wafer mit einem Durchmesser von bis zu 200mm und einer äußeren Formtoleranz von bis zu 3µm bearbeiten. Die Wafer werden mit einer Vakuum-Kontaktstufe mit 6-Achsen-Sensor und einem Spannungsmesser an der Maschine montiert, um ein stabiles, wiederholbares Bild über die gesamte Oberfläche des Wafers zu gewährleisten. Das Tool verfügt über eine erweiterte Ausrichtungsphase mit einer Kombination aus Low-Speed- und High-Speed-Musteranpassungstechniken, die mit mehreren Belichtungstechniken kombiniert ist, die die wiederholbare Abbildung von hochauflösenden Mustern ermöglichen. Das Asset ist auch mit einer Vielzahl von Belichtungsmodi ausgestattet, wie normale und schnelle Belichtung, exponierte Feldnähte und Array-Scanning, die die Abbildung auch komplexer Strukturen mit Genauigkeit und hohem Durchsatz ermöglicht. Das Modell verfügt über eine fortschrittliche Bildkalibrierungsausrüstung, um sicherzustellen, dass die über mehrere Wafer erzeugten Bilder konsistent bleiben. Darüber hinaus verfügt das System über eine Wärmemanagementeinheit, die die negativen Auswirkungen von Temperaturverschiebungen auf die Belichtungsgenauigkeit verringern soll. CANON FPA-2500I2 enthält auch einen leistungsstarken Mikrocontroller, der anpassbare Bedienereinstellungen, eine vollautomatische Be- und Entlademaschine und fortschrittliche Belichtungsüberwachungssysteme ermöglicht, die eine zuverlässige, wiederholbare Leistung des Werkzeugs gewährleisten. Die Anlage ist in der Lage, extrem genaue Fotolithographiebilder mit einer hohen Präzision bei Belichtungsdosen bis zu 0,2 J/cm ² über eine 200mm (8 ") Wafergröße zu erzeugen. Die 3000i2 ist somit ideal für Photolithographie-Anwendungen, bei denen Hochgeschwindigkeits- und Präzisionsbilder von Mustern hoher Dichte unerlässlich sind.