Gebraucht CANON FPA 2500 i2 #9298394 zu verkaufen

Hersteller
CANON
Modell
FPA 2500 i2
ID: 9298394
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1993
Stepper, 6" Power: 18.7 kVA Reticle size: 6", CANON STD Wafer feeder: Type-L PA Unit: 6", O.F Type Chamber: TBW-CD60 Illuminator: FPA-2500 i line A Scope: i-line, TTL T/Z-Tilt Unit: 3 (L,M,R) Support mount: Servo passive damper Lamp house: 1.5 kW Electrical: 3Ø, AC 200 V, 50/60 Hz 1993 vintage.
CANON FPA 2500 i2 Wafer Stepper ist ein Präzisions-Lithographie-Tool zur Verarbeitung einer Vielzahl von ultrafeinen Linien, Mustern und Funktionen durch photolithographische Bildgebung. Die Ausrüstung verwendet einen 5 Megawatt ArF Excimer Laser und wurde entwickelt, um die strengen Anforderungen der ultrahochpräzisen Schaltung und Geräteherstellung zu erfüllen. Es ist in der Lage, eine breite Palette von Mikroelektronik-Geräten, einschließlich SOC-Sorten und medizinischen Komponenten, auf eine Vielzahl von Substraten zu drucken. Das System besteht aus mehreren Präzisionskomponenten, wie einem 5-Megawatt-ArF-Excimerlaser, einer XY-Stufe zur Präzisionsplatzierung, einer optischen Präzisionslinse und einer 6-achsigen Roboterstruktur. Der ArF-Excimerlaser wird bei einer Wellenlänge von 193 nm ausgegeben und hat eine Impulsdauer von 10 ns. Der Laserstrahl wird dann über die optische Linse auf das Substrat gerichtet. Sobald der Strahl auf das Substrat trifft, wird die XY-Stufe verwendet, um das von der Anwendung benötigte Gesamtmuster genau zu positionieren. Die 6-achsige Roboterstruktur von CANON FPA-2500I2 ist für die optimale Ausnutzung der Laserkapazitäten ausgelegt. Der Roboter verfügt über einen mehrachsigen Schrittantrieb, der eine Submikron-Positionierung mit einer maximalen Scangeschwindigkeit von 100.000mm/s ermöglicht. Dies ermöglicht die Platzierung von hochpräzisen KEs in einem großflächigen Streufeldmuster. Es bietet auch mehrere parallele Scanoptionen, die ein gleichzeitiges Scannen in mehrere Richtungen ermöglichen. FPA-2500 I2 Wafer Stepper bietet eine ausgezeichnete Option für den Bedarf an Nanofabrikation. Die Kombination aus Präzision, Geschwindigkeit und Flexibilität macht es zu einer idealen Lösung für die Herstellung von Mikroelektronik und medizinischen Komponenten. Darüber hinaus bietet das Gerät eine Vielzahl von Nachbearbeitungsfunktionen wie ein Strahlanalysemessgerät und einen integrierten Mikroflacher. Darüber hinaus ist die Maschine mit einer CCD-Kamera und einem Grid Laser Alignment Tool ausgestattet, die beide eine effiziente Registrierung von großflächigen Mustern ermöglichen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor