Gebraucht CANON FPA 2500 i2 #9298398 zu verkaufen

CANON FPA 2500 i2 ist ein fortschrittlicher, halbautomatischer, optischer Wafer-Stepper, der in Forschungs- und Entwicklungslaboren sowie in industriellen Umgebungen eingesetzt wird. Dieses Gerät ist mit mehreren beeindruckenden Eigenschaften ausgestattet, die auf Effizienz und Genauigkeit optimiert sind. So soll das integrierte Optikdesign Reflective Super High NA (Ref-SHNA) im Vergleich zu herkömmlichen Lithographiesystemen eine höhere numerische Apertur erzeugen. Dadurch können kleinere Formatgrößen hergestellt werden, was eine höhere Auflösung und Genauigkeit ergibt. Darüber hinaus trägt dieses Design dazu bei, Beugung, Streuung und Geräusche zu minimieren und die Gesamtleistung zu verbessern. Die Maschine ist mit einem Laser-Scriber ausgestattet, der ein System der Vibrationsunterdrückung aufweist, das verwendet wird, um Schwingungsfehler während des Ritzens zu reduzieren. Dies reduziert Defokus und Kontamination und verbessert gleichzeitig die Genauigkeit der Linien. Der Laser Scriber verfügt auch über ein fortschrittliches Design, das drei Dimensionen des Schneidens und der Szintillation umfasst und eine höhere Kontrolle und Genauigkeit bietet. CANON FPA-2500I2 ist in der Lage, Bilder über eine große Fläche von bis zu 200 mm im Durchmesser, Die Maschine ist weiter in der Lage, die Abbildung in verschiedenen Richtungen, wie Vorwärts, Rückwärts und Rotation für genaue Ausrichtungen. Das Gerät ist mit einer automatischen Wafer-Handhabungsmaschine ausgestattet, die Hochgeschwindigkeitsprozesse mit Genauigkeit und Präzision ermöglicht. Darüber hinaus bietet dieses Tool eine vereinfachte Benutzeroberfläche mit einem Touchscreen-Display für eine einfache Bedienung sowie kundenspezifische Rezepte zur Feinabstimmung auf bestimmte Muster. Darüber hinaus ist eine Unterbringung sowohl für Positive (PR) oder Negative (NR) Resists vorgesehen, als auch die Fähigkeit, eine Vielzahl von Flüssigkeiten zu implementieren. FPA-2500 I2 bietet eine äußerst vielseitige Lithographie für eine Reihe von Forschungs-, Entwicklungs- und Produktionsanwendungen. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen und beeindruckenden Fähigkeiten ist dieses Modell das perfekte Werkzeug für hochpräzise Muster mit hoher Ausbeute.