Gebraucht CANON FPA 2500 i2 #9298434 zu verkaufen

Hersteller
CANON
Modell
FPA 2500 i2
ID: 9298434
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1994
Stepper, 6", parts system Power: 18.7 kVA Reticle size: 6", CANON STD Wafer feeder: Type-L PA Unit: 6", O.F Type Chamber: TBW-CD60 Illuminator: FPA-2500 i line A Scope: i-line, TTL T/Z-Tilt Unit: 3 (L,M,R) Support mount: Servo passive damper 4 Lamp house: 1.5 kW Electrical: 3Ø, AC 200 V, 50/60 Hz 1994 vintage.
CANON FPA 2500 i2 ist ein Hochleistungs-Wafer-Stepper, der für die fortschrittliche Halbleiterproduktion entwickelt wurde. Diese Maschine hilft bei der Herstellung von Geräten mit feineren Linienbreiten, höheren Ausbeuten und druckempfindlicher Leistung. Die proprietären Technologien hinter dieser Ausrüstung basieren auf CANON bewährten iTRACT (Image Transfer, Registration, and Control Technology), und es bietet Anwendern eine hervorragende Mustergenauigkeit und Wiederholbarkeit. CANON FPA-2500I2 verfügt über eine breite Palette von Belichtungsmodi, einschließlich konventioneller Vollfeld-Stepper, repetitive Scan (RS) Stepper und Wide-Field-Scan (WFS) Stepper. Der RS-Modus dieses Systems ermöglicht es Benutzern, mit belichteten und unbelichteten Bereichen eines Wafers zu arbeiten, was die Herstellung komplexer Gerätestrukturen unterstützt. Der WFS-Modus dieser Einheit bietet Flexibilität im Umgang mit einer Vielzahl von Overlay-Stufen, was den Durchsatz im Vergleich zu herkömmlichen Schrittsystemen deutlich verbessert. FPA-2500 I2 ist auch mit dem Peel Exposure Mode (PEM) ausgestattet, mit dem Benutzer das Overlay mehrerer Schichten mit hoher Präzision steuern können. Diese Maschine verfügt über eine 2,5 x 2,5 µm imaging_field_area und der Benutzer kann die Strahlgröße in Bezug auf jede PE-Modusschicht anpassen. CANON FPA-2500 I2 bietet Anwendern auch die Möglichkeit, Belichtungszeit und Lichtintensität anzupassen. Die Vielseitigkeit und Leistungsfähigkeit von CANON FPA-2500 I 2 machen es ideal für die fortschrittliche Schaltungsherstellung geeignet. Dieses Tool bietet Benutzern eine ausgezeichnete Schrittgenauigkeit, so dass sie mit herausfordernden Strukturen arbeiten und Kosten im Zusammenhang mit der Maskenherstellung reduzieren können. Das Asset bietet Anwendern auch eine breite Palette von Belichtungsmodi, so dass sie schnell und effizient arbeiten können. Mit seinem robusten Betrieb ist FPA-2500I2 ein hervorragendes Werkzeug für die Herstellung von Halbleiterbauelementen.
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