Gebraucht CANON FPA 2500 i3 #293762557 zu verkaufen

CANON FPA 2500 i3 ist ein hochmoderner Wafer-Stepper zur Strukturierung von Photomasken mit großem Durchmesser für die Anwendung in der Lithographie integrierter Schaltungen. Mit seiner branchenführenden Maskengröße von bis zu 1500 mm und einer außergewöhnlichen Linienbreitenauflösung von 0,75 µm bietet CANON FPA-2500I3 eine beispiellose Bildgebungsgenauigkeit und einen hohen Durchsatz. FPA-2500 I3 setzt fortschrittliche Bildgebungs- und Beleuchtungssysteme ein. Eine zweistufige, kohärente Beleuchtungseinrichtung mit einem Pin-Hole-Array gewährleistet eine überlegene Gleichmäßigkeit des bildgebenden Feldes und eliminiert Effekte von störenden Elementen wie Linienanschlägen und Linsenaberrationen. Das System verwendet einen hochgenauen Hexapod, um die Position des Beleuchtungsfeldes bezogen auf das Maskensubstrat auf maximale Genauigkeit genau zu steuern. CANON FPA-2500 I 3 verfügt zudem über eine präzise Stufensteuerung mit höchster verfügbarer Genauigkeit. Es verwendet eine monolithische, ultraglatte einteilige mechanische Konstruktion mit fortschrittlichen Vorkompensationsmechanismen, um eine hochpräzise Positionswiederholbarkeit und Längsgenauigkeit zu erzielen, was Einheitenfehler auf ein Minimum reduziert. Damit garantiert FPA 2500 i3 eine hervorragende Druckgenauigkeit. Darüber hinaus bietet FPA-2500I3 eine leistungsstarke Reihe von Wartungs- und Bedienungsfunktionen, die den täglichen Betrieb einfacher und effizienter macht. Die fortschrittliche Fokus-Monitor-Maschine verwendet optische Sensoren und Analysealgorithmen, um Kameraparameter wie Fokustiefe, Kontrast und Linienbreite genau zu verfolgen und zu überwachen, so dass Bildgebungs- und Musterprozesse schnell und genau durchgeführt werden. Insgesamt ist FPA 2500 I 3 ein leistungsstarker und präziser Wafer-Stepper, der für die schnelle und genaue Strukturierung von Photomasken mit großem Durchmesser entwickelt wurde, die für die Lithographie integrierter Schaltkreise verwendet werden. Seine einteilige monolithische Konstruktion, fortschrittliche Beleuchtungs-, Bildgebungs- und Bühnensteuerungssysteme und Überwachungsfunktionen machen es zu einem wichtigen Werkzeug in jedem digitalen Halbleiterherstellungslabor.