Gebraucht CANON FPA 2500 i3 #9164887 zu verkaufen

CANON FPA 2500 i3 ist ein fortschrittlicher Wafer-Stepper, der für die Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet wird. Die Geräte nutzen modernste Resistverarbeitungs- und Bildgebungstechnologie und liefern Präzisionsausrichtung und Lithographie für mehrschichtige Fresnel Zone Plate (FZP) und Array-Schaltungen. Zusätzlich zur ultrafeinen Bildtreue bietet das System schnellen Datendurchsatz, hohen Durchsatz, hohe Genauigkeit und geringen nativen Verbrauch. CANON FPA-2500I3 nutzt eine vollwertige 8-Zoll-Wafer-Ladekapazität mit einer verbesserten optischen Einheit für verbesserte Auflösung und Kontrast. Die Maschine verfügt über eine hochgenaue hochpräzise XY-Stufe zur präzisen Ausrichtung der Wafer. Darüber hinaus beseitigt das bordeigene Bewegungsstabilisierungswerkzeug Vibrationen und verbessert die Bildqualität während der Belichtung. FPA-2500 I3 ist sowohl mit herkömmlichen Multi-Layer-FZP als auch mit den fortschrittlicheren Array-Schaltungen kompatibel. Es verfügt über fortschrittliche Optik- und Lithographietechnologie und bietet hochauflösenden Druck auf kleinen Geometrien. Das Asset bietet zudem schnelle Durchsatzraten und hohe Expositionsgeschwindigkeiten für die ultraschnelle Geräteherstellung. Die Onboard-Resist-Technologie sorgt für kontrastreiche, tieftemperatur- und schnelltrocknende Prozesse. Die integrierte lithographische Optik und die Plattenwellentechnologie optimieren die Optik für die integrierte Array-Schaltung und bieten Präzisionsbilder sowie verbesserte Genauigkeit und Durchsatz. Das Modell bietet auch eine breite Palette von messtechnischen Werkzeugen, für die Messung von Geräten und lithographische Ausrichtung. Das Gerät ist auch mit einer umfassenden Suite von Software-Tools integriert, die Offline-Datenanalyse und Unterstützung bieten. CANON FPA 2500 I 3 ist die perfekte Wahl für eine hohe Präzision, hohen Durchsatz und hochwertige Wafer Stepper Lösung. Mit fortschrittlicher Optik, Lithographietechnologie und Resistverarbeitung bietet dieses System branchenführende Leistung und liefert präzise Bildgebung und Lithographie einer breiten Palette von Halbleiterbauelementen.