Gebraucht CANON FPA 2500 i3 #9229104 zu verkaufen

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Hersteller
CANON
Modell
FPA 2500 i3
ID: 9229104
Wafergröße: 8"
Stepper, 8" Reticle size: 5" Magnification: 1/5x Image field: 20 mm x 20 mm Numerical aperture: 0.52 ~ 0.60 Uniformity: ~ 3.3% Intensity: 4,750 w/m2 Illumination light source: 1.5 kW Super high pressure Hg lamp Alignment modes: TTL Off-axis He-Ne TV TTL Off-axis broadband TV Alignment light source: He-Ne Laser (633 nm) Broadband (Halogen lamp) Wafer leveling: Die by die tilt Global tilt.
CANON FPA 2500 i3 ist ein hochgenauer Wafer-Stepper, der in Mikrofabrikationsprozessen verwendet wird. Es ist ein Stepper, der kleinere und schnellere Bilder als herkömmliche Elektronenstrahlsysteme aufnehmen kann. CANON FPA-2500I3 ist in der Lage, Expositionen mit einer Präzisionsausrichtung von 200 Nanometern vorauszurichten. Das Gerät verfügt über ein 0,48 NA Beleuchtungssystem und 151 mm lange Arbeitsstrecke. Das volle Sichtfeld ist 100 mm mit einem Vollformat von 2576 mm quadratisch. FPA-2500 I3 ist mit seinen semiaktiven Ausrichtungsmöglichkeiten in der Lage, eine 35mm-Durchlässigkeitsauflösung zu erreichen. Der Stepper selbst ist ein Mehrfeld-Wafer-Stepper mit einer vollautomatischen Ausrichteinheit. Mit einer Kombination aus Beleuchtung und optischer Maschine ist der Stepper für eine extrem genaue Ausrichtung über das gesamte Feld ausgelegt. Es hat zwei refraktive Abbildungsmodi, die NAI (normale Flächenbeleuchtung) und EI (erweiterte Flächenbeleuchtung) sind. Der NAI-Modus wird für die Feldauflösung und der EI-Modus verwendet, um einen hohen Kontrast in der Auflösung zu erzielen. CANON FPA 2500 I 3 Stepper verfügt über ein fortschrittliches Automatisierungswerkzeug sowie eine große Umgebungskammer. Dies ermöglicht eine vollkommen gewichtsstabile Fähigkeit auch nach langer Betriebsdauer. Das Automatisierungs-Asset ermöglicht Genauigkeit und Wiederholbarkeit, wodurch der Stepper seine Genauigkeit auf mehreren Stempeln beibehalten kann. FPA 2500 i3 hat eine breite Palette von Belichtungszeiten, die eine breite Palette von Prozesssteuerung ermöglichen. Es bietet auch eine Reihe von Scanmodi, wie mehrstufige Belichtung, gleichzeitige Belichtung und schrittweise Belichtung. Dies ermöglicht die Verträglichkeit mit verschiedenen Substratmaterialien. In Bezug auf die Bildgebungsgenauigkeit ist FPA-2500I3 in der Lage, 60 Nanometer Feature-Registrierung Genauigkeit. Um die Bildgenauigkeit weiter zu erhalten, ist der Stepper mit einer Zwei-Mikron-Regel sowie einer flächenbasierten Autofokus-Korrektur ausgestattet. Dies gewährleistet eine erhöhte Belichtungsgenauigkeit und Stabilität in der Ausrichtungsgenauigkeit. Der Stepper ist auch mit einem Hochbelichtungsmonitor-Modell ausgestattet. Mit dieser Ausrüstung können Anwender die Belichtungszeitdaten messen und überwachen sowie Prozessweinlöcher nutzen. Dieses Überwachungssystem ermöglicht auch eine anpassbare und erweiterbare Spaltensteuerung. Dies ermöglicht eine bessere Kontrolle der Auftragsausführung. Insgesamt ist FPA 2500 I 3 ein fortschrittlicher Wafer-Stepper, der für extrem präzise Mikrofertigungsprozesse entwickelt wurde. Es verfügt über eine breite Palette von Automatisierungsfunktionen und ist für hochgenaue Bildgebung entwickelt. Es ist gut ausgestattet mit Funktionen, die eine genaue Bildgebung sowie Erweiterungsfähigkeit und Prozesskontrolle gewährleisten.
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