Gebraucht CANON FPA 3000 i4 #9224170 zu verkaufen

CANON FPA 3000 i4 ist ein Wafer-Stepper der nächsten Generation, der entwickelt wurde, um fortschrittliche Lithographiefunktionen für die anspruchsvollsten Anwendungsanforderungen anzubieten. Es ist das einzige Werkzeug seiner Art, das in der Lage ist, Auflösungen im Bereich von 0,2 μ m zu erzielen und gleichzeitig hohen Durchsatz und Produktivität zu erhalten. Das System ist mit fortschrittlicher Beleuchtungs- und Fokussierungsfähigkeit sowie automatischer Ausrichtung und Mustererkennung ausgestattet. Der i4-Stepper besteht aus einer Haupteinheit, einem Reticle-Handling-Roboter und einer optischen Antriebseinheit. Die Haupteinheit enthält den Kern des Lithographieverfahrens, der die Waferstufe, den Wafermotor, die Beleuchtungseinheit, die Projektionslinse und die Photomaske umfasst. Die Waferstufe sorgt für eine automatisierte Handhabung des Wafers während der Lithographie und kann das Schaukeln, Be- und Entladen, die Bühnenpositionierung und die Ausrichtung steuern. Der Wafermotor wird verwendet, um die Waferstufe über das Sichtfeld zu treiben und liefert eine genaue, robuste und wiederholbare Bewegungen für hochpräzise Lithographie. Die Beleuchtungseinheit besteht aus einer Lichtquelle und einer Abbildungsoptik. Die Lichtquelle besteht aus einer Hochleistungs-Ultraviolett- oder Argon-Fluorid-Lasermaschine und einem strahlbildenden optischen Werkzeug, das für homogene Beleuchtung und Korrekturen bei Fokus- und Intensitätsaberrationen sorgt. Die Projektionslinse besteht aus einem Satz von zwei Objektivsätzen. Der erste Satz von Linsen wird verwendet, um den Abbildungsstrahl auf das Retikel zu fokussieren, während der zweite Satz verwendet wird, um das Muster auf den Wafer zu vergrößern. Die Linse ist motorisiert und kann verwendet werden, um den Fokus und die Vergrößerung des Musters auf verschiedenen Bereichen des Wafers zu variieren. Die Photomaske ist ein Quarzsubstrat, das mit einem Muster aus undurchsichtigen und transparenten Schichten beschichtet ist, die das Muster definieren, das auf den Wafer gedruckt werden muss. Der Retikelhandhabungsroboter und das optische Antriebsmodell sind für die Übertragung der Fotomaske von der Retikelstufe auf die optische Antriebseinrichtung verantwortlich, die die Maske dann zur Lithographie auf die Projektionslinse bewegt. Darüber hinaus verfügt das System über eine automatisierte Ausrichtungs- und Mustererkennungseinheit, die das Muster vor dem Drucken für jede Belichtung genau auf das Retikel ausrichtet. CANON FPA-3000I4 wurde entwickelt, um hohen Durchsatz und Produktivität mit einer Auflösung von 0,2 μ m zu bieten. Die automatisierte Ausricht- und Mustererkennungsmaschine eignet sich ideal für hochauflösende Lithographie, während die fortschrittlichen Beleuchtungs- und Fokussierungsfunktionen für konsistente Ergebnisse sorgen. Das Werkzeug ist sehr zuverlässig und liefert wiederholbare Lithographieergebnisse, was es zu einer ausgezeichneten Wahl für die anspruchsvollsten Anwendungen macht.