Gebraucht CANON FPA 3000 i5 #9086289 zu verkaufen
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ID: 9086289
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1997
i-Line stepper, 8"
Wafer type: Silicon, notch
Wafer chuck: Notch ring
Wafer feeder:
Type: L
Inline station: Yes
Edge exposure unit: No
Reticle changer, 6"
Type: Normal
Additional library: Yes
PPC: Yes
RPC: No
Cassette barcode: No
Reticle barcode: No
AGV: No
EWS:
Type: 715
CPU: 64
2nd Lan Board: Yes
Console:
MO Driver: Yes
Remote: Yes
Printer: No
Job server: Yes
Online: Yes
Power receiving box: Type 52B
(3) Signal towers
Damper: Active
Chuck maintenance tool:
Cleaning plate: No
Chuck fork: No
UPS: FUJI
Lamp / Laser:
Mercury lamp: No
Halogen lamp: No
He-Ne laser: No
Laser head (inter ferometer): Yes
Other:
Lock tool: No
Bar mirror case: Yes
Chuck maintenance tool case: yes
C-Oil: No
Manual: No
Currently warehoused
1997 vintage.
CANON FPA 3000 i5 Wafer Stepper ist eine Präzisionsausrichtung, die entwickelt wurde, um den Durchsatz zu erhöhen und die hohen Anforderungen der Geräteherstellung und der Waferproduktion der nächsten Generation zu erfüllen. Das System verwendet eine fünfachsige, vierspiegelige Abtastoptik, um eine hohe Genauigkeit und Genauigkeit der Wiederholbarkeit während der Lithographie-Prozesse zu erreichen. CANON FPA 3000I5 Wafer Stepper ist in der Lage, bis zu 4 „oder 6“ Wafer mit einer hohen Präzision zu handhaben. Darüber hinaus verwendet die Maschine fortschrittliche Lithographiesoftware, um Waferausrichtungs- und Waferbelichtungsprozesse zu automatisieren. FPA-3000 I5 Wafer Stepper verfügt über eine Reihe von optischen und mechanischen Funktionen, die auf Genauigkeit und Vielseitigkeit bei der Waferbearbeitung ausgelegt sind. Mechatronische Aktoren bieten präzise mechanische Bewegung, so dass das Werkzeug sowohl qualitativ hochwertige Bilder als auch minimale Ausrichtungsfehler erzeugen kann. Zusätzlich sorgen zwei Sätze von Lasermustererkennungskameras für hochauflösende Bildaufnahme und Dateneingabe für Lithographieanwendungen. Das Asset verfügt auch über erweiterte Ausrichtungsalgorithmen, um den Wafer genau auszurichten und die Belichtungsparameter während des Lithographieprozesses korrekt anzupassen. CANON FPA-3000 I5 Wafer Stepper ist auch mit einem fortschrittlichen optischen Modell ausgestattet, einschließlich einer hochgenauen Bildgebungslinse und hochauflösenden Zoomlinsen, die eine genaue Brennweitenanpassung und Fokussierung zwischen den Belichtungsstufen ermöglichen. Dies gewährleistet eine gleichbleibend hohe Belichtungsgenauigkeit und eine hohe Wiederholbarkeit während des Belichtungsprozesses. Der Stepper verwendet auch ein patentiertes Belichtungsgerät, das Belichtung und Scannen in einem einzigen, einheitlichen Belichtungsverfahren integriert. Ein umfassendes Diagnosesystem ist integral zu FPA 3000 i5 Wafer Stepper. Diese automatisierte Einheit bietet verschiedene erweiterte Funktionen, einschließlich statische Bildmusterauswertung, dynamische Bildmusterauswertung, Laserbildmusterausrichtung, Leistungsauswertung und automatische Einstellung von Belichtungsparametern. Darüber hinaus können gespeicherte und archivierte Daten aus früheren Prozessen verwendet werden, um bei Bedarf schnelles und effizientes Prozess-Feedback zu liefern. Schließlich verfügt FPA 3000I5 Wafer Stepper auch über eine vollständige Palette von benutzerfreundlichen Funktionen, die die Bedienerarbeit reduzieren und die Effizienz verbessern sollen. Voll integrierte Bedienelemente stellen sicher, dass Belichtungs- und Scanprozesse ordnungsgemäß kontrolliert und optimiert werden, während eine intuitive Benutzeroberfläche einfachen Zugriff auf verschiedene Belichtungs- und Scanparameter bietet. Darüber hinaus ist die Maschine mit der CANON Laserbildverarbeitungssoftware kompatibel, die erweiterte Konfigurationen für Belichtungs- und Scanregeln, Datenanalyse und Berichtsgenerierung ermöglicht. Alles in allem ist CANON FPA 3000 i5 Wafer Stepper ein zuverlässiges und hochqualitatives Werkzeug, das den hohen Anforderungen der neuesten Geräteherstellung und Waferproduktionsprozesse gerecht wird.
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