Gebraucht CANON FPA 3000 i5+ #9258600 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9258600
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2000
Stepper, 8"
PC Model: EWS B180L
Wafer standard: JEIDA
Wafer type: Notch
Reticle type: 6"
Material: Quartz
Changer type: HITACHI
Case type: HITACHI
Optical system:
Magnification: 1/5
Field size: 22 mm
NA: 0.63~0.45
Screen size: 6"
Illumination system:
Ultra-high pressure mercury lamp 2.0 kW
σ: 0.7~0.3
Estimate exposure light control
(4) Independent blades
Wafer loader type: Notch, 8"
Wafer holder type: Notch, 8" TIO2
Wafer / Reticle alignment:
Clear vision field image processing
Wafer alignment:
Alignment light: HeNe Laser / Broad band
Mode: AGA
Reticle alignment:
Alignment light: i-Line
XY Stage:
3-Axes laser interferometer
Stroke:
X: 115mm ~ -115mm
YX: 115mm ~ -115mm
2000 vintage.
CANON FPA 3000 i5 + Wafer Stepper ist eine fortschrittliche Schritt und Wiederholung Ausrüstung von CANON für High-End-Lithographie-Operationen produziert. Dieses System ist als eines der Top-Lithographiesysteme der Lithographie-Industrie gelistet. Es ist eine vollständig integrierte Plattform, bestehend aus den Basiskomponenten: i5-Scanner, Objektiv, Retikel und eine Bildverarbeitungskarte. Der i5 Scanner befindet sich im Kern der Einheit. Es ist in der Lage, bis zu zwei Mal schneller als bisherige Standard-Scanner zu arbeiten und ist hochgenau. Dieser Scanner ist auch mit CANON advanced iMO (Intelligent Multi-Level Optimization) -Technologie ausgestattet, die hochzuverlässige Lösungen für fortschrittliche Belichtungsanwendungen bietet, die eine hohe Dosisgleichmäßigkeit und Bildflächigkeit erfordern. Das Objektiv in CANON FPA 3000I5 + ist ein Feldabflachungsobjektiv zur Korrektur von Aberrationen im fokussierten Bild. Dies sorgt für eine bessere Auflösung und Konsistenz der Bilder. Das Retikel ist ein 9-Scheiben-Typ, der sowohl Geisteraberrationen reduzieren als auch den Bildkontrast verbessern soll. Schließlich ist die Abbildungsplatine in den i5-Scanner und die Linsenmaschine integriert, um einen stabilen und genauen Bildübertragungsmechanismus bereitzustellen. Diese Abbildungsplatte ist speziell für High-End-Lithographieanwendungen konzipiert, um sicherzustellen, dass das aus dem Retikel hergestellte Muster dem ursprünglichen Design treu bleibt. Insgesamt ist FPA-3000 I5 + Wafer Stepper ein fortschrittliches Step and Repeat-Tool, das eine zuverlässige Plattform für Wafer-Lithographielösungen bietet. Mit seinen hochmodernen Komponenten kann dieses Asset Anwendern höchste Bildtreue und ultrahochdosierte Gleichmäßigkeit bieten. Als solches eignet sich dieses Modell für Anwendungen in der Mikroelektronik, Optoelektronik und anderen Präzisions-Lithographieoperationen.
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