Gebraucht CANON FPA 3000 i5+ #9280839 zu verkaufen
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ID: 9280839
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2000
Stepper, 8"
PC Model: EWS B180L
Wafer standard: JEIDA
Wafer type: Notch
Reticle type: 6"
Material: Quartz
Changer type: HITACHI
Case type: HITACHI
Optical system:
Magnification: 1/5
Field size: 22 mm
NA: 0.63~0.45
Screen size: 6"
Illumination system:
Light source: 2.0 kW Ultra-high pressure mercury lamp
σ: 0.7~0.3
Estimate exposure light control
Masking function: (4) Independent blades
Wafer loader type: Notch, 8"
Wafer holder type: Notch, 8" TIO2
Wafer alignment:
Alignment light: HeNe Laser / Broad band
System: Clear vision field image processing
AGA Mode
Reticle alignment:
Alignment light: i-Line
System: Clear vision field image processing
XY Stage:
System: 3-Axis laser interferometer
Stroke:
X: 115 mm ~ -115 mm
YX: 115 mm ~ -115 mm
2000 vintage.
CANON FPA 3000 i5 + ist eine Hochleistungs-, für die modernsten Steindruckverfahrenanwendungen entworfene Klein-Feldsteindruckverfahrenausrüstung. Das zweistufige Optikdesign des Systems nutzt ein High-NA-Großfeldobjektiv, um die höchste Auflösung, kleinste Funktionsgröße und höchsten Durchsatz für 2x oder 6x Reticles zu erreichen. Diese robuste Einheit, die eine Feldgröße von 5,5 mm bietet, basiert auf der Konstruktion der optomechanischen Einheit von CANON und bietet einen zuverlässigen, stabilen Betrieb und einen breiten Belichtungsbereich. Und mit seinen fortschrittlichen Flugmaschinen, Ausrichtungs- und Messfunktionen bietet das Tool noch einfachere Wartung und Bedienung. CANON FPA 3000I5 + wurde entwickelt, um die strengsten Anforderungen der weltweit führenden Halbleiterhersteller zu erfüllen. Es verfügt über die branchenweit höchstauflösende Projektionsoptik, kombiniert mit fortschrittlichen Dosissteuerungs- und Messmethoden, für die anspruchsvollsten Anwendungen in der 300mm-Lithographie. Die hochpräzise Optikeinheit bietet die hervorragende Auflösung und Belichtungstreue für erweiterte Scanbelichtung. CANON einzigartige asymmetrische Korrekturtechnologie hilft, die Überlagerungsgenauigkeit zu optimieren und kleine Beutefehler zu reduzieren. Das Luftlagerdesign bietet eine hochpräzise Positionierung und einen stabilen Betrieb, was eine noch höhere Verarbeitungssicherheit und Erträge ermöglicht. Das fortschrittliche X-Y-Bühnendesign verfügt über eine geschlossene Positionsgenauigkeit und eine Geschwindigkeits-/Beschleunigungsregelung. FPA-3000 I5 + verfügt auch über eine Vielzahl von Standardfunktionen und Optionen, einschließlich Mehrfrequenzausrichtungsmessungen, Scannen von Durchfokus-Scans und proprietärer Belichtungssteuerungstechnologie. Insgesamt ist FPA 3000I5 + ein idealer Vorteil für Anwendungen in der 300mm-Lithographie. Mit seinem robusten Design, der hochpräzisen Optik und der fortschrittlichen Belichtungssteuerung ist es ideal für die Kleinfeldlithographie, so dass Sie die höchste Auflösung und den Durchsatz mit den niedrigsten Gesamtkosten erreichen können. Das intelligente Design gepaart mit umfassender und zuverlässiger Leistung machen dieses Modell zu einer ausgezeichneten Wahl für alle, die nach fortschrittlicher Technologie und Leistung suchen.
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