Gebraucht CANON FPA 3000 i5 #9311794 zu verkaufen

CANON FPA 3000 i5 ist ein weltweit führender Wafer-Stepper und ein hochmodernes Lithographiesystem, das speziell für die DNA-Nanotechnologie entwickelt wurde. Es ist in der Lage, Muster unter 100nm mit < 2nm Overlay und bis zu 150nm mit < 5nm Overlay abzubilden. Dieses leistungsstarke Tool ist ideal für Anwendungen mit hoher Genauigkeit wie Photomasken-Musterung, Lithographie mit Unterauflösung, Halbleiter und Datenspeichertechnologien. Der i5 Wafer Stepper zeichnet sich durch seine ultrahochauflösende und dynamische Reichweite, hohe Geschwindigkeit und Zuverlässigkeit, geringe Wartungskosten und Benutzerfreundlichkeit aus. CANON FPA 3000I5 besteht in erster Linie aus einem Beleuchtungsmodul, einer Waferstufe und einer Säule. Das Beleuchtungsmodul bietet dem Wafer eine helle Lichtquelle, die ein extrem weites Sichtfeld und eine große numerische Apertur ermöglicht. Die hohe Intensität der Lichtquelle in Kombination mit dem weiten Sichtfeld ermöglicht es dem System, Merkmale mit sehr hoher Genauigkeit abzubilden. Darüber hinaus ist die Lichtquelle mit einem Satz von Filtern ausgestattet, die es Benutzern ermöglichen, die Wellenlängen des ausgesendeten Lichts zu ändern, wodurch der Benutzer die Leistung der Lichtquelle, die Intensität und die spektralen Empfindlichkeiten des abgebildeten Wafers steuern kann. Die Waferstufe besteht aus einem Waferhalter, Laserdioden-Aligner, Bewegungsachse und einem z-Motor. Der Waferhalter setzt und entfernt den Wafer sicher von der Bühne, während der Laserdioden-Aligner eine optische Einrichtung zur schnellen und genauen Ausrichtung des Wafers auf die Bühne bereitstellt. Die Bewegungsachse und der z-Motor ermöglichen es dem Benutzer, den Wafer präzise in jede Richtung zu bewegen und das Substrat effektiv über das Sichtfeld zu scannen. Die Bühne verfügt auch über eine Auto-Reset-Funktion, die einen schnellen Rückruf der Belichtungseinstellungen für verschiedene Belichtungsprozesse ermöglicht. FPA-3000 I5 ist über eine benutzerfreundliche grafische Oberfläche zugänglich und wird von einem leistungsstarken Bordcomputer gesteuert. Auch Betriebsparameter wie Belichtungszeiten, Belichtungsraten und Lichtintensität können angepasst werden, so dass Anwender das Lithographiewerkzeug auf bestimmte Fertigungsprozesse oder Anwendungsanforderungen abstimmen können. Darüber hinaus können Benutzer auf eine Vielzahl von Anpassungsoptionen zugreifen, mit denen der Benutzer die Geschwindigkeit der Waferstufe und den Standort des bestrahlten Bereichs anpassen kann. CANON FPA-3000 I5 ist ein ausgezeichnetes Werkzeug für Photomasken-Strukturierung, Subauflösungs-Lithographie und Halbleiterherstellungsprozesse. Mit seiner hohen Auflösung, Dynamik und Effizienz ermöglicht der i5 Anwendern die schnelle und präzise Fertigung von Gerätekomponenten und Komponenten für eine Vielzahl von Anwendungen. Die intuitive Benutzeroberfläche, anpassbare Instrumenteneinstellungen und geringe Wartungskosten machen den i5 zu einem unschätzbaren Werkzeug für jeden Ingenieur oder Wissenschaftler, der an der Herstellung von Nanotechnologie-Komponenten beteiligt ist.