Gebraucht CANON FPA 3000 iW #9151772 zu verkaufen

CANON FPA 3000 iW ist ein hochmoderner Wafer-Stepper mit überlegener Leistung und Zuverlässigkeit. Dieser Wafer-Stepper wird bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen einschließlich Lithographieverfahren eingesetzt und ist auf hohe Präzision und Genauigkeit ausgelegt. Es ist in der Lage, 100nm Auflösung zu erreichen und verfügt über eine 0.33NA Beleuchtungsausrüstung. CANON FPA 3000IW Wafer Stepper ist ein fortschrittliches Gerät entwickelt, um produktionsfertige Lithographie-Prozesse zu liefern. Dieses Gerät ist in der Lage, sowohl Einzel- als auch Doppelbelichtungsprozesse sowie Schritt-und-Wiederhol- und Cluster-Tools durchzuführen. Es verfügt über einen ultrakurzen Belichtungsfleckendurchmesser von 100nm. Dieses hochkompakte System ist einzigartig ausgelegt, um die Raumnutzung zu optimieren. FPA-3000IW verfügt auch über ein Bühnenbild, das Drei-Achsen-Synchronisation und schnelle Setzzeit bietet. Dies ermöglicht eine genaue und präzise Ausrichtung jeder Matrize. Es verfügt außerdem über eine optimierte Stufenkühleinheit, die die Prozessstabilität auch unter wechselnden Bedingungen gewährleistet. Eine eingebaute aktive Ausrichtmaschine ist auch enthalten, um hochpräzise Ausrichtungen des Lithographiefeldes zu gewährleisten. Die integrierte FPA-Bildprojektionsoptik wurde entwickelt, um klare Bildgenerationen über einen Bereich von T in beugungsbegrenzter Linse bereitzustellen. Es bietet auch In-Position-Muster-Registrierung. Auch das fortschrittliche Beleuchtungswerkzeug ist so konzipiert, dass es exakt die gleiche Beleuchtung über den Belichtungsbereich ausführt. CANON FPA-3000 IW hat ein robustes Design mit einem hohen Maß an Zuverlässigkeit und Betriebszeit. Es bietet ein softwarebasiertes Asset zur Erkennung und Korrektur von Verstimmungen und anderen Fehlern. Darüber hinaus verfügt es über ein Design, das eine flexible Integration mit verschiedenen Betriebssystemen und eine schnelle Datenübertragung ermöglicht. Abschließend ist der FPA 3000 I W Wafer Stepper ein fortschrittliches Gerät, das für die Herstellung von Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. Es ist in der Lage, hohe Präzision und Genauigkeit mit seinem 0.33NA Beleuchtungsmodell und ultrakurzer Belichtungsfleckendurchmesser von 100nm zu erreichen. Es verfügt über eine optimierte Stufenkühler Ausrüstung und aktives Ausrichtungssystem. Auch dieses Gerät hat eine robuste Konstruktion, die sehr zuverlässig ist und eine effiziente Einheit für die Durchführung von Lithographie-Prozessen bietet.