Gebraucht CANON FPA 3000 #9384377 zu verkaufen

CANON FPA 3000 ist ein Hochleistungs-Wafer-Stepper für fortschrittliche Lithographie-Prozesse. Diese Maschine ist in der Halbleiterindustrie für die Herstellung von mikroskopisch kleinen Chips sowie für die optische Film- und Photomaskenproduktion weit verbreitet. Es ist in der Lage, Wafer bis zu einem Durchmesser von 450mm mit einer Belichtungsfläche von bis zu 375mm zu handhaben. CANON FPA-3000 ist mit einer fortschrittlichen bildgebenden Ausrüstung ausgestattet, die ein proprietäres kristallines Spiegelsystem und einen optischen Zug verwendet. Dadurch wird sichergestellt, dass der bildgebende Prozess präzise und präzise ist. Es verwendet auch einen hochpräzisen Motor, um die Fokussierlinse und den Spiegel zu bewegen, was die Genauigkeit weiter erhöht. Die Maschine ist in der Lage, eine Vielzahl von Prozessen durchzuführen. Dazu gehören Ätzen, Photoresist-Beschichtung, Bildgebung und Sichtprüfung. Es ist auch in der Lage, Multi-Exposure-Lithographie-Prozesse. Diese Maschine ist auch mit der Fähigkeit ausgestattet, mehrere Arten von Musterbildern zu erkennen und kann Submikron- und Nanobilder durchführen. Das Gerät verwendet ein proprietäres Softwareprogramm, um die mit jedem Prozess verbundenen Belichtungs-, Ausrichtungs-, Analyse- und Berichtsaufträge zu steuern. Die Software kann auch verwendet werden, um auf Geräteparameter zuzugreifen, die eine präzise Steuerung jedes Prozesses ermöglichen. Darüber hinaus kann die Software für Wartungsaufgaben wie Reinigung, Kalibrierung und vorbeugende Wartung verwendet werden. FPA 3000 bietet zudem mehr Sicherheit und Umweltschutz. Es kann mit eingebauten Sicherheitsfunktionen wie einer Feuerunterdrückungsmaschine, Notabschaltung und Hochspannungsprüfgerät ausgestattet werden, um die Sicherheit von Personal und Ausrüstung zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt es über eine temperaturgesteuerte Trockenätzanlage zur Verringerung der Schadstoffemissionen. Insgesamt ist FPA-3000 ein hochentwickelter Wafer-Stepper für optimale Leistung und wird in der Halbleiterindustrie für Lithographieverfahren eingesetzt. Es bietet eine erhöhte Genauigkeit und Sicherheit sowie eine Vielzahl von Prozessoptionen. Damit ist sie eine ideale Wahl für die Herstellung mikroskopisch kleiner elektronischer Bauteile.