Gebraucht CANON FPA 5000 AS2 #136492 zu verkaufen

CANON FPA 5000 AS2 ist ein in der Halbleiterherstellung verwendeter Waferstepper (auch als Belichtungswerkzeug bekannt). Es ist Teil der CANON e-Beam-Technologiefamilie, dem Marktführer für Lithographiewerkzeuge für die Mikrochipindustrie. FPA 5000 AS2 ist ein erstklassiges Werkzeug, das sowohl Prototyp- als auch Produktionswaferbedürfnisse mit verbesserter Produktivität und ausgezeichneter Bildqualität bedienen kann. Die Belichtungsfunktionen von CANON FPA 5000 AS2 sind sowohl für schrittweise als auch für wiederholte und kontinuierliche Wafer-Stepper-Prozesse konzipiert. Seine Belichtungstechnologien umfassen sowohl Rasterelektronenstrahl (SEB) als auch Flying Spot-Belichtungsverfahren. Die Flying Spot-Belichtungsmethode verwendet einen statischen Elektronenstrahl und eine bewegliche Projektion aus der Linsenausrüstung, die einen hohen Durchsatz mit hoher Präzision und Genauigkeit bietet. Das Belichtungssystem auf FPA 5000 AS2 ist mit einer automatischen Ausrichteinheit ausgestattet, die die Verarbeitungszeiten drastisch beschleunigt und gleichzeitig die Ausrichtgenauigkeit gewährleistet. Die Auto-Alignment-Maschine verwendet ein Auto-Alignment-Mark-Erkennungswerkzeug, das Fehlstellungen von Mustern verhindert, die durch Wafer-Fehlausrichtung oder verzogene Wafer verursacht werden können. Das Beam Position Control Asset von CANON FPA 5000 AS2 bietet mit seinem automatisierten Musterverfolgungsmodell mehr Flexibilität. Diese Ausrüstung kann Muster verfolgen und Korrekturen mit externen Rückkopplungssignalen vornehmen. Darüber hinaus sind die Strahlüberwachungs- und Steuerungssysteme der FPA 5000 AS2 in der Lage, während des gesamten Herstellungsprozesses vorgegebene Strahlparameter beizubehalten. CANON FPA 5000 AS2 ist aufgrund seiner großen Scangröße und hochauflösenden Bildgebungsfunktionen in der Lage, Bilder mit einem akzeptablen Maß an Bildtreue für eine breite Palette von Waferherstellung zu erzeugen. Seine hochauflösende Bildgebung garantiert auch, dass Bilder überlegenen Kontrast und Schärfe zeigen. Die Schwachstelle des Niederenergie-Wafermaterials FPA 5000 AS2 wird durch das Niederenergie-SEB-System und die niedrige SEB-Kammerspannung des Werkzeugs minimiert. Die niedrige SEB-Kammerspannung sorgt dafür, dass die thermisch induzierte Spannung des Substrats minimiert wird, wodurch die Gerätespezifikationen und -ausbeuten erhalten bleiben. Das FPA-5000 enthält eine Rezeptarchivierungseinheit, mit der Kunden auf Konfigurationsrezepte zugreifen und diese speichern können. Diese Funktion ermöglicht es Kunden, ihre Rezeptdateien besser an ihre Bedürfnisse anzupassen. CANON FPA 5000 AS2 kann auch pseudo-O2 anstelle von O2 verwenden. Pseudo-O2 reduziert die gesamten Bearbeitungszeiten durch den Wegfall von Zwischenschritten. Darüber hinaus verfügt FPA 5000 AS2 über mehrstufige Retikle-Austauschfunktionen. Dies bietet verkürzte Taktzeiten durch gleichzeitiges Be- und Entladen von Retikeln. Insgesamt ist der CANON FPA 5000 AS2 Wafer Stepper ein Top-of-the-Line-Werkzeug für Prototyp- und Produktionswafer-Anforderungen. Seine Eigenschaften bieten überlegene Bildtreue, Schwachstelle mit niedrigem Energieverbrauch, erhöhte Produktivität und verbesserte Ausrichtungsgenauigkeit.