Gebraucht CANON FPA 5000 ES #9200127 zu verkaufen

CANON FPA 5000 ES ist ein führender lithographischer Wafer-Stepper, der es Herstellern ermöglicht, Halbleiterbauelemente präzise und effizient herzustellen. Es hat eine 5-Mikrometer-Auflösung, die es ermöglicht, hochauflösende Linien-/Raumfunktionen bis zu 0,25 Mikrometer Breite zu erzeugen. Dadurch eignet es sich zur Herstellung von hochvolumigen und fortgeschrittenen Halbleiterbauelementen. Die Außenabmessungen von FPA 5000 ES betragen 2710 x 1750 x 1625 mm, mit einer Standardfeldgröße von 50,8 x 50,8 mm. Die Stromversorgung des Steppers ist ein Industriestandard AC100/AC200 Spannungsbereich, mit einer optionalen DC/AC300 Stromversorgung Upgrade. CANON FPA 5000 ES hat ein Drei-Linsen-Design mit Feldwinkeln von 0 °, 90 ° und 277 °, um die volle 50,8 mm Feldfläche abzudecken. Eine optische Entmagnetisierung von 4,0x verleiht dem Stepper eine größte Schärfentiefe und hohe Bildhöhengenauigkeit. FPA 5000 ES verwendet eine dreistufige telezentrische Beleuchtungseinrichtung, die eine präzise Platzierung von lithographischen Merkmalen ohne Flare ermöglicht. Die Beleuchtung ist hinsichtlich Intensität und Homogenität über den gesamten Feldbereich einstellbar, was die Herstellung optimierter lithographischer Muster erleichtert. Mit seinem Multi-Projection-Bildgebungssystem kann CANON FPA 5000 ES gleichzeitig mehrere Feldgrößen freilegen und gleichzeitig eine hohe Gleichmäßigkeit der Feld-zu-Feld-Belichtung beibehalten. Es ist auch möglich, Felder unterschiedlicher Größe in Abhängigkeit von der lithographischen Aufgabe zu unterschiedlichen Zeitpunkten zu belichten. Neben den Standardmerkmalen verfügt FPA 5000 ES auch über ein optionales FPD-Modul (Flat Panel Display) für die Lithographie von Gläsern. Dieses Modul ermöglicht eine flache Musterbelichtung mit hoher Genauigkeit und ermöglicht die Herstellung von Halbleiterbauelementen mit kleinen, scharfen Strukturen. CANON FPA 5000 ES ist ein leistungsstarker Wafer-Stepper, der sich durch seine überlegene Auflösung und Kompatibilität mit mehreren Lithographiesystemen auszeichnet. Seine energiesparende Operationsweise, fortgeschrittene Beleuchtungseinheit und Mehrvorsprungsbildaufbereitungsmaschine machen es ein hervorragendes Werkzeug für die Produktion der Großserie, Qualitätshalbleitergeräte.