Gebraucht CANON FPA 5000 ES3 #293588073 zu verkaufen

CANON FPA 5000 ES3 ist ein 5-Mikron-Wafer-Stepper, der mit einer Reihe fortschrittlicher Funktionen ausgestattet ist. Für die Produktionsumgebung konzipiert, ist es eine ideale Wahl für eine effiziente Mehrprojekt-Wafer-Verarbeitung. Seine fortschrittliche optische Ausrüstung nutzt hohe Schärfe, geringe Verzerrung, diffraktive optische Elemente und einen schnellen Mechanismus, um eine schnelle und genaue Ausrichtung und Messung bei einem hohen Durchsatz zu liefern. CANON FPA 5000ES3 ist auch mit einem fortschrittlichen Auto-Fokus-System ausgestattet, um eine einheitliche Fokussierung auf eine Probe über alle optischen Bedingungen zu gewährleisten, um präzise Messungen und Ausrichtung zu gewährleisten. Die vollständige Scanlinie und die genaue Platzierung von Musterbildern bieten die höchste Prozesswiederholbarkeit und -leistung, die für fortgeschrittene Anwendungen erforderlich sind. FPA-5000 ES3 verfügt über eine hochqualifizierte Wafer-Mapping-Einheit, die sowohl das vollständige Wafer-Mapping als auch das lokalisierte Wafer-Mapping kritischer Parameter wie Dosis, Ausrichtung und Fokus unterstützt. Diese Funktion ermöglicht eine präzise Nachbelichtungsausrichtung kritischer Strukturen, wodurch potenzielle Ertragsprobleme durch falsch ausgerichtete Merkmale vermieden werden. FPA 5000 ES 3 enthält auch einen leistungsfähigen Bildannotator, der eine schnelle und genaue Positionierung und Messung kritischer Strukturen auf einem Wafer ermöglicht. Diese Funktion ist ideal für die Messtechnik und hilft, den Ausfallanalyseprozess zu beschleunigen. Darüber hinaus verfügt CANON FPA 5000 ES 3 über eine Reihe von Umweltkontrollfunktionen wie eine automatische Umweltüberwachung und eine präzise Temperaturregelung, die für die Gewährleistung präziser Waferbearbeitungsbedingungen während des gesamten Herstellungsprozesses von Wafern unerlässlich sind. Abschließend ist FPA 5000ES3 ein fortschrittlicher Wafer-Stepper, der mit Funktionen und Fähigkeiten ausgestattet ist, um die anspruchsvollsten und strengsten Anforderungen jeder Produktionsumgebung zu erfüllen. Seine erweiterten optischen Maschinen- und Bildannotationsfunktionen gewährleisten präzise Messungen, Ausrichtung und Zuordnung. Darüber hinaus sorgen die umfassenden Umweltkontrollen für genaue und einheitliche Prozessbedingungen während des gesamten Herstellungsprozesses von Wafern.