Gebraucht CANON FPA 5000 ES3 #9114874 zu verkaufen

CANON FPA 5000 ES3 ist ein Wafer-Schrittgerät, das Präzision und Genauigkeit bei der Herstellung integrierter Halbleiterschaltungen bietet. Es ist mit einer Scan-und-Align-Optik ausgelegt, die zwei senkrechte Abstände über eine ganze Schaltungsschicht abtastet, um ihre Position genau auszurichten. Das Gerät verwendet ein verbessertes Objektivdesign mit einer 3,5-Mikron-Genauigkeit über 200 Millimeter aktive Fläche. Es verfügt auch über drei unabhängige Optik- und Beleuchtungssysteme, die eine höhere Auflösung und einen größeren Dynamikbereich ermöglichen. CANON FPA 5000ES3 enthält einen High-Speed-Wafer-Handler, der automatische Ausrichtung und schnellen Wafer-Übergang mit Load-In und Load-Out-Funktionen bietet. Seine motorisch angetriebenen Belichtungen von überlappenden Bildern auf dem Wafer werden mit Nanometerauflösung durchgeführt, was eine höhere Gleichmäßigkeit und Genauigkeit gewährleistet. Die Maschine verfügt über einen Scanbereich von 10 bis 200 Millimetern mit der Fähigkeit, Substrate bis 200 mm zu handhaben. Darüber hinaus nutzt FPA-5000 ES3 eine softwaregesteuerte motorisierte Stufe, die eine Wiederholbarkeit von +/- 0,1 µm (λ/10) für z-Achsbewegungen erreichen kann. Dieses Feature wird durch seine optische Ausrichtungstechnologie für erhöhte Genauigkeit und überlegene Bildqualität ergänzt. Das Tool verfügt über eine patentierte Laserbeleuchtung, die Nahinfrarot-Laserscanning und Weißlichtbildgebung kombiniert, die überlegenen Kontrast und Auflösung für hochpräzise Overlay-Messungen bietet. Es verfügt auch über ein einzigartiges Wafer-Handling-Modell, das sowohl 8- als auch 12-Zoll-Substrate unterstützt. FPA 5000 ES3 bietet darüber hinaus erweiterte Automatisierungsfunktionen wie die automatische Ausrichtung, das automatische Laden und die automatische Messung. Seine patentierte Laserausrichtung ermöglicht eine verbesserte Genauigkeit mit jeder Schicht. Darüber hinaus verfügt das System über eine optomechanische Konstruktion, die ein separates Mikroskop entfällt und einen höheren Durchsatz ermöglicht. FPA 5000ES3 bietet eine Reihe von Upgrades und Zubehör wie mehrdimensionale Auto-Shift, Zusatzlinsen und Hochdruckpumpen für eine bessere Kontrolle von Partikeln. Seine erweiterten Diagnosefunktionen ermöglichen es Anwendern, Probleme schnell zu erkennen und entsprechende Korrekturmaßnahmen zu ergreifen. Seine Software ist benutzerfreundlich und das Gerät ist sehr zuverlässig bei der Handhabung von Wafermaterialien und Substraten. Es kann auch in der Waferbearbeitung, Mikrofabrikation und Lithographie Anwendungen verwendet werden.