Gebraucht CANON FPA 5000 ES3+ #9200132 zu verkaufen

CANON FPA 5000 ES3 + ist eine spezialisierte Lithographie-Wafer-Stepper und Rechenlithographie-Plattform, die in der Halbleiterherstellung verwendet wird. Es wird in Reinräumen verwendet, um integrierte Schaltungen (ICs) wie Mikroprozessoren herzustellen. Dieses Gerät wurde entwickelt, um Projektionsmasken auf eine Silizium-Waferoberfläche mit einer optischen bildgebenden Ausrüstung und einem Wafer-Mapping-System zu erstellen. FPA 5000 ES3 + ist mit einer Carl Zeiss Beleuchtungseinheit, mehreren Objektiven und insgesamt 3 Schrittvergrößerungen ausgestattet. Es bietet eine fortschrittliche Wafer-Dispergierfunktion in Verbindung mit einer vollautomatischen Bühnenausrichtungsmaschine, um eine präzise Ausrichtung während der Mikrolithographie-Produktion zu gewährleisten. Die Maschine ist auch mit modernsten messtechnischen Merkmalen konzipiert, die hochpräzise Overlay-Muster, Leistungsüberwachung, Kammerabgleich, Fehlerbewertung, Netzprüfung und Messung kritischer Abmessungen (CD) ermöglichen. CANON FPA 5000 ES3 + ist mit einem spezialisierten Datenverarbeitungswerkzeug ausgestattet, das fortschrittliche Berechnungen und ein einzigartiges Chip-Nähmuster verwendet, um eine verbesserte Musterdichte zu erzeugen. Diese Technologie kann eine Auflösung von 0,63 Mikron erreichen und gleichzeitig mögliche Fehler in der Projektionsmaske beseitigen. Dies ist leistungsstark für die Herstellung integrierter Schaltungen, da es die genaue Wiedergabe von Nanometermerkmalen ermöglicht. FPA 5000 ES3 + ist mit verschiedenen High-Tech-Sicherheitsfunktionen ausgestattet, um den Wafer während der Verarbeitung zu schützen. Die Maschine ist mit eingebauten Kollisionspräventionsprotokollen konzipiert, um die Möglichkeit von menschlichem Fehler bei der Übertragung von Proben zu reduzieren. Diese Maschine ist auch mit einer speziellen Reinigungsanlage fertig, um sicherzustellen, dass Partikel, Gas und chemische Verunreinigungen ausreichend aus der Kammer entfernt werden. CANON FPA 5000 ES3 + wird durch ein umfassendes Servicepaket unterstützt. Ingenieure stehen zur Verfügung, um verschiedene Parameter der Maschine zu überwachen und anzupassen. Um sicherzustellen, dass alle Probleme schnell und effizient gelöst werden, kann die Gesundheit des Modells ständig überwacht werden und druckt vollständige Leistungsberichte der Geräte aus. In Summe ist FPA 5000 ES3 + eine fortschrittliche Lithographie-Wafer-Stepper und Rechenlithographie-Plattform, die in der Halbleiterherstellung verwendet wird. Diese Maschine verfügt über erweiterte Wafer-Ausrichtungs- und Messtechnik-Funktionen, so dass sie integrierte Schaltungen mit Nanometermustern herstellen kann. Verschiedene Sicherheitsprotokolle und Kundendienstpakete sorgen für eine zuverlässige und sichere Produktion von ICs.