Gebraucht CANON FPA 5000 ES4 #9038993 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9038993
KrF scanner, 8"
Process: DUV, LITHO - Krf Scanner
Software version: V54.06C
Wafer specification:
Wafer shape: SNNF (Semi notch no flat)
Wafer cassette: 8" PP Miraial
SMIF Interface: No
System Configuration:
Magnification: 1/4
NA: 0.80~0.50
Field size: 26 x 33 mm
Illumination (Conventional): 0.85~0.30 (at NA=0.80)
Illumination (Special): Auto selection from 4 conditions
Condition sample: NA 0.80 Outer, 0.850 Inner, 0.567 (Annular)
Light source: KrF (248 nm) Laser Cymer ELS-7300 30 W, 4 kHz
Reticle blind setting area: Max. Field size, Min: 0.4 x 0.4 mm
Reticle Alignment:
Alignment sensor: Image processing method
Alignment light source: 660±15 nm
Reticle holder size: 6"
Scan speed: 1400 mm/sec
Interferrometer: 3 axis
Wafer Alignment:
Alignment sensor: Image processing method
Alignment light source: 590±60 nm (wavelength selectable)
Scan speed: 350 mm/sec
Interferrometer: 5 axis
Pre-alignment: Edge detection system (non-contact)
Chuck maintenance: Auto chuck clean and load/unload system
Inline type: Left inline
Library #: 25
Reticle case type: Nikon type
Particle checker: pellicle particle checker (PPC)
Chemical filter type: Amine and Organic
2003 vintage.
CANON FPA 5000 ES4 ist ein fortschrittlicher Wafer-Stepper für den Einsatz in der Halbleiterverarbeitung. Es ist ein offenes Architekturwerkzeug, das hohe Präzision, hohe Geschwindigkeit und kostengünstige Verarbeitung für die Geräteproduktion bietet. Das Werkzeug verfügt über ein Objektiv mit hoher numerischer Apertur (NA) mit einem breiten Winkelfeld, das eine genaue Strukturierung von Gerätefunktionen mit der höchsten verfügbaren Vergrößerungsauflösung ermöglicht. CANON FPA-5000 ES4 Stepper bietet auch Dual-Imaging-Pfade, eine schnelle Autofokussierung und einen großen mehrkanaligen Belichtungsbereich. FPA-5000 ES 4 ist für jede Wafergröße mit einem maximalen Sichtfeld von bis zu 7,4 mm Durchmesser optimiert und kann nahezu jeden Dünnschichtabscheidungsprozess abwickeln. Es kann auch Automobil- und Life-Sciences-Anwendungen, sowie MEMS-Prozess behandeln, so dass eine extrem breite Palette von Anwendungen. Das System ist mit einer bildgebenden Führungseinheit, einer hochempfindlichen Autofokusmaschine und mehreren Mustertechnologien ausgestattet. Es kann auch die gleichzeitige Mehrfachexposition aufnehmen, um eine präzise und originalgetreue Replikation zu unterstützen. Der fortschrittliche FPA 5000 ES4 Stepper wurde entwickelt, um modernste Anforderungen zu erfüllen, mit fortschrittlichen Funktionen wie automatisierter Ausrichtung, einem integrierten Wafertransportwerkzeug und spezialisierten Werkzeugen für präzises Waferklemmen und eine Präzisionsstufe. Die hochmoderne Optik und die präzise Ausrichtung ermöglichen zudem eine hohe Durchsatzrate und die höchsten verfügbaren Auflösungsbilder. Darüber hinaus ist das Stepper-Asset so konzipiert, dass sowohl Zykluszeit als auch Ablehnungsraten reduziert werden. FPA-5000 ES4 Stepper ist ein hervorragendes Werkzeug für die Halbleiterverarbeitung. Es bietet eine hochpräzise und schnelle Verarbeitung zu geringen Kosten und ist damit die ideale Wahl für alle Arten von Waferbearbeitung. Es ist mit fortschrittlichen Funktionen und Werkzeugen ausgestattet, um die Präzision und Effizienz zu maximieren, und sein robustes Design bietet einen sorgenfreien Betrieb auch in den anspruchsvollsten Umgebungen. Ob für Geräteproduktion, Automobil, MEMS oder jeden anderen Waferprozess, CANON FPA-5000 ES 4 bietet mehr als nur Spitzentechnologie; sie stellt sicher, dass alle Aufträge schnell und präzise abgewickelt werden.
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