Gebraucht CANON FPA 5000 ES4 #9267141 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9267141
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2003
Scanner, 12"
Illumination
Scan illumination
Z-Spin
Wafer type: Notch
CYMER ELS 7300 KrF Scanner laser, 248 nm
Laser
Right side console
Surface illumination (Standard): 36000 W/m²
R-Type inline direction
Reduction ratio: 1:4
Resolution: 120 nm
Alignment accuracy: 20 nm
Throughput:
AGA (8) Shots 110 wafer/hour
Step pitch: 26 nm x 33 mm
(64) Shots, 12"
Exposure amount: 300 J/m²
(3) Lighting NA:
0.80/σ0.80 Conv
0.80/σ0.40 Conv
0.80/SiB2
Projection lens NA: Variable 0.55-0.80
Exposure range (scan field): 26 x 33 mm
Wafer alignment: AGA (Off axis scope)
Reticle library: (7) Sheets
Options:
PPC Unit, 6"
Reticle barcode reader (2D), 6"
Signal tower
Relay FOUP unit
2003 vintage.
CANON FPA 5000 ES4 ist ein spezieller Wafer-Stepper für Lithographie-Anforderungen in der Geräteproduktion. Es ist eine hochgenaue und zuverlässige Ausrüstung, die die Gerätekonsistenz im Herstellungsprozess maximiert. Mit führender Bewegungssteuerungs- und Optiktechnologie bietet CANON FPA-5000 ES4 fortschrittliche Funktionen wie hochauflösende Bildgebung, parallele Verarbeitungsfähigkeit und minimale thermische Komprimierung des Wafers. Zusammen sorgen diese Merkmale für eine deutlich verbesserte Prozessstabilität und Wiederholbarkeit. FPA-5000 ES 4 Stepper besteht aus einem Hauptkörper, Scanner, Laserdioden-Array-Quelle, Abbildungsoptik und einer Ultra-Präzisionsstufe. Der Hauptkörper enthält alle Systemkomponenten, und der Scanner wird verwendet, um das gewünschte Muster zu erstellen. Die bildgebende Optik in diesem Gerät ist top-of-the-line und bietet die höchste Auflösung zur Verfügung. Außerdem liefert die Laserdioden-Array-Quelle die maximal zulässige Leistung für eine Belichtungswellenlänge von 830nm. Um die Genauigkeit zu gewährleisten, ist der Stepper mit einem ultrapräzisen CANON-Stufenmechanismus ausgestattet. Diese komplexe Maschine verfügt über zwei orthogonale U-Achsen, die von Linearmotoren angetrieben werden und ein hochgenaues Positionierwerkzeug bieten. Dadurch sorgt die Stufe für eine bestmögliche Ausrichtung des Musters auf den Wafer, was zu einer überlegenen Prozessleistung in Bezug auf Overlay, Fokussierung und Verzerrungskorrektur führt. Darüber hinaus verfügt FPA-5000 ES4 Stepper über eine breite Palette von Software-, Automatisierungs- und Datenerfassungstools. Dies ermöglicht eine effizientere Produktion und Automatisierung des Lithographieprozesses. Um die Sicherheit zu gewährleisten, integriert die Anlage mehrere bedingte Sicherheitsverriegelungen, einschließlich optischer Sensoren, Bewegungssteuerung und Netzsperren. FPA 5000 ES4 Stepper ist ein zuverlässiges und fortschrittliches Modell, das unübertroffene Leistung und Stabilität für Lithographie-Anforderungen in der Geräteproduktion bietet. Mit seiner Spitzentechnologie, einschließlich Bewegungssteuerung, Optik und Bühnenmechanismen, bietet diese Ausrüstung ein hohes Maß an Genauigkeit und Prozesskontrolle, was zu überlegener Gerätekonsistenz in der Produktion führt.
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