Gebraucht CANON FPA 5500 iZ #9251789 zu verkaufen

CANON FPA 5500 iZ ist eine von CANON entwickelte und hergestellte Immersions-Lithographiemaschine zur präzisen Strukturierung und Massenproduktion von Halbleiterscheiben. CANON FPA 5500IZ ist eine Immersions-Lithographie-Ausrüstung, die eine Hochleistungs-UV-Lichtquelle, fortschrittliche Optik, spezialisierte Chemikalien und eine Scanmechanik verwendet, um Muster auf einem Wafer zu exponieren und komplizierte und genaue Schaltungsmuster zu schaffen. FPA-5500 IZ ist mit einem fortschrittlichen, binären Beleuchtungsfunktionspaket ausgestattet, das eine schnelle und präzise Strukturierung mit hoher Wiederholung und Genauigkeit ermöglicht. Dieses erweiterte Paket beinhaltet den VNA-Modus (Variable Numerical Aperture), der die numerische Blende und die Spotgröße anpasst, um die Auflösungseigenschaften weiter zu optimieren, und den Mask Shift Scan (MSS), der die Belichtungszeit im Vergleich zu herkömmlichen binären Beleuchtungssystemen halbiert. Der optische Aufbau von CANON FPA-5500 IZ besteht aus einer all-reflektierenden, katadioptrischen Struktur mit insgesamt 10 optischen Elementen, bestehend aus einer gemeinsamen Lichtquelle, Abbildungslinse, Spiegeln, Fokuslinsen und einem 4-Blenden-Lichtregler. Die innerhalb des Systems integrierten optischen Elemente erhöhen die Auflösung auf 32 nm Halbhöhe. FPA 5500IZ wird von CANON proprietärem CASS (Grobausrichtungs- und Stabilisierungseinheit) angetrieben, das das Belichtungslicht in der Waferebene aktiv stabilisiert, sowie eine Submikron-Pegelausrichtungsfähigkeit und die CACC (Grobausrichtungs- und Korrekturmaschine), die eine verbesserte Positionskontrolle ermöglicht. Beide Funktionen arbeiten zusammen, um optimale und konsistente Ergebnisse zu erzielen. FPA 5500 iZ ist mit einer leistungsstarken Waferstufe ausgestattet, die Drehbewegungen und verschiedene Scangeschwindigkeiten steuern kann. Sein randbelichtendes Werkzeug erfüllt präzise Musteranforderungen und sein Waferbelastungsmechanismus ist für den Umgang mit empfindlichen Wafern optimiert. CANON FPA 5500 iZ nutzt außerdem eine chemische Lieferung, um eine einheitliche Verbreitung von Prozesschemikalien für die wiederholbare Immersionslithographie zu gewährleisten. CANON FPA 5500IZ ist in der Lage, Wafer mit einer Größe von bis zu 200mm und einer Genauigkeit von bis zu 32nm Halbhöhe mit einer Beschleunigung von 10G und einem maximalen Durchsatz von 406wph zu strukturieren. Es ist auch mit einer kleinen Stellfläche, einer umweltfreundlichen Struktur und einer minimalen Leistungsaufnahme konzipiert. Damit eignet er sich ideal für die Multi-Technologie-Prozessentwicklung und serienstarke Anwendungen. FPA-5500 IZ ist ein hochentwickeltes und vielseitiges Lithographiemodell, das mit Funktionen ausgestattet ist, um präzise und effiziente Musterfunktionen zu ermöglichen.