Gebraucht CANON FPA 5500 iZ+ #9251792 zu verkaufen

CANON FPA 5500 iZ + ist eine halbautomatische photolithographische Wafer-Schrittausrüstung, die für eine hochpräzise, kostengünstige Photomaskenproduktion entwickelt wurde. Das System bietet die Flexibilität und Präzision, die erforderlich ist, um Fotomaskenmuster relativ einfach und schnell zu erzeugen. Das Gerät verfügt über einen außergewöhnlich leistungsstarken Schrittmotor, der schnelle Geschwindigkeiten, hohe Genauigkeit und minimale Musterverzerrung bietet. Der Schrittmotor ist mit einem Hochgeschwindigkeits-, präzise ausgerichteten optischen Kopf kombiniert, der die Maske bei extrem hohen Auflösungen effizient abtastet. Mit bis zu 5 Stück Reticles zur Verfügung, Zeit und Kosteneinsparungen können als Stepper Griffe überlappende Muster gesehen werden, so dass es ideal für mehrere Aufgaben. Die Maschine wird mit einem fortschrittlichen Ausrichtwerkzeug und einer für die VLSI- und CMP-Verarbeitung geeigneten Ausrichtungsmöglichkeit gebaut. Das hochpräzise Alignment-Asset minimiert die Rüstzeiten und erleichtert die Registrierung mehrerer Masken auf einem einzelnen Wafer. Seine Fähigkeit, mehrere Substrat- und Retikelgrößen zu unterstützen, macht es zu einer guten Wahl für Kunden, die mit unterschiedlich großen Mustern arbeiten. CANON FPA-5500IZ + verfügt über ein Ink Jet Tröpfcheninspektionsmodell. Dieses Gerät kann Defekte an der Maskenoberfläche erkennen, fehlerhafte Muster schnell identifizieren und dann die Daten manipulieren oder Korrekturmaßnahmen ergreifen, wie das Neupositionieren des aktuellen Musters oder das Abwerfen der fehlerhaften Oberfläche. Die integrierte Photomasken-Produktionsumgebung bietet unverzichtbare Funktionen für die Einrichtung und Verwaltung von Photomasken-Mustern. Dieses System vereinfacht die Parametereinstellung, steigert die Effizienz und trägt zur Kostensenkung bei. Darüber hinaus verwaltet das Maskenproduktionswerkzeug alle relevanten Daten und Historien, um die Effizienz und Genauigkeit zu verbessern. Um eine optimale Leistung zu gewährleisten, verfügt der FPA 5500 IZ++ über eine Regeleinheit. Diese Maschine überwacht die Substrattemperatur und die Photomaskenstufe auf hohe Leistung. Das integrierte Temperaturregelwerkzeug sorgt für eine gleichmäßige Substrattemperatur für präzise Ergebnisse, unabhängig davon, wie lange die Anlage in Betrieb ist. Insgesamt ist FPA 5500 iZ + ein fortschrittliches, aber benutzerfreundliches Wafer-Stepper-Modell, das für eine hochpräzise und kostengünstige Photomasken-Produktion entwickelt wurde. Mit integrierten Funktionen zur Verbesserung der Genauigkeit und Kostensenkung, Lichtemissionstests und leistungsstarken Echtzeit-Substratverarbeitungsfunktionen ist diese Ausrüstung die ideale Wahl für Kunden in der Photomasken-Industrie.