Gebraucht CANON FPA 5510 iV #293817797 zu verkaufen

CANON FPA 5510 iV ist ein leistungsstarker und hochgenauer Wafer-Stepper, der für die fortschrittliche Herstellung von Halbleiterlithographie entwickelt wurde. Es verfügt über eine Nikon cGTO5510 Wafer-Bühne, die kurze Scanzeit mit Ultra-Präzision für kleine Funktionsgrößen bietet. Mit einem kleinen Sichtfeld von 5,5 mm und 10-Mikron-Schrittauflösung kann FPA 5510 iV anspruchsvolle Aufgaben mit Leichtigkeit bewältigen. Der Stepper verwendet eine CANON VME optische Säule, um eine extrem feine Auflösung und einen hohen Durchsatz in einem weiten Dynamikbereich zu liefern. Die Scannerspiegel und motorisierten Stufen kombinieren eine integrierte Ausrüstung mit einem einheitlichen Design. Dies ermöglicht einen schnelleren Durchsatz und eine höhere Genauigkeit bei kleineren Fußabdrücken. CANON FPA 5510 iV kommt mit einem Ausrichtungssystem mit einer einfach zu bedienenden Benutzeroberfläche und hochempfindlicher konfokaler Ausrichtungseinheit und 2D-Wireless-Array. Der Stepper ist auch mit einer überlegenen Vergrößerungsmaschine mit bis zu 50facher Vergrößerung ausgestattet, die eine größere Fokustiefe für eine höhere Präzisionsmusterung ermöglicht. Mit einem fortschrittlichen Projektionswerkzeug kann FPA 5510 iV eine Vielzahl von Substratmaterialien und Filmdicken im Bereich von 0,3 Mikron bis 10 Mikrometer handhaben. Das Asset verwendet eine Kombination aus Resist- und Maskenabscheidungstechnologie, um Muster unterschiedlicher Größe und Komplexität mit außergewöhnlicher Präzision zu erstellen. Für ein umfassendes Lithographiemodell bietet CANON FPA 5510 iV eine Auswahl an erweiterten Funktionen für mehr Produktivität. Die intuitive Benutzeroberfläche des Steppers ermöglicht eine schnelle Einrichtung und bietet Batch-Verarbeitung und Rezept-Management für schnelle Durchlaufzeiten. Der Stepper ist auch mit einer großen Auswahl an Software kompatibel, um seine Leistung weiter zu verbessern. FPA 5510 iV bietet auch verschiedene Sicherheitsmerkmale und Luftreinhaltesysteme, um eine sichere Arbeitsumgebung zu gewährleisten. Mit einem integrierten Ionisator kann der Stepper Ladung und Staubaufbau auf empfindliche Komponenten minimieren und kritische Prozesse verbessern. CANON FPA 5510 iV Wafer Stepper bietet ein hohes Maß an Genauigkeit und Flexibilität für Präzisions-Lithographie-Anwendungen. Mit seiner Kombination aus Nikon cGTO5510 Waferbühne und CANON VME optischen Säule kann es anspruchsvolle Aufgaben mit Präzision und Leichtigkeit effektiv bewältigen. Die fortschrittliche Vergrößerungsausrüstung des Steppers, die intuitive Benutzeroberfläche, Luftreinhaltesysteme und viele andere Besonderheiten machen es zur idealen Wahl für anspruchsvolle Lithographieanwendungen.