Gebraucht CANON FPA 6000 ES5 #9227776 zu verkaufen
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ID: 9227776
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2004
KrF Scanner, 12"
248 nm
System configuration:
Type: Notch
LCP Wafer chuck
L-Type wafer thermal controller plate (WTC)
System layout:
Left type: Inline direction
TEL Lithius track interface
Auto feeder: Type X
Front side only e-console kit
Right type, 12"
Open cassette
Canon standard booth unit
(3) Color signal towers
Reticle, 6"
Reticle SMIF changer unit
Reticle barcode reader
Pellicle particle checker (Pellicle height: 5mm)
GIGAPHOTON G40K3 Excimer laser
2004 vintage.
CANON FPA 6000 ES5 ist ein fortschrittlicher und hochgenauer Wafer-Stepper, der fortschrittliche optische und mechanische Komponenten verwendet, um präzise und wiederholbare Ergebnisse zu liefern. Die Ausrüstung ist ein fortschrittliches und wiederholtes integriertes System, das eine genaue und wiederholbare Waferbearbeitung mit hohen Ertragsraten liefern kann. Das Gerät kann für eine Vielzahl verschiedener Lithographieverfahren eingesetzt werden, einschließlich Einzel-, Doppel- und Mehrfachbelichtung. Der Wafer-Stepper kann für eine Vielzahl verschiedener Prozesse wie Photolithographie, Halbleiter, MEMS und Leiterplattenverarbeitung eingesetzt werden. Die Maschine basiert auf einem fortschrittlichen ultrapräzisen Scanner und bildgebenden Werkzeug mit speziell entwickelten optischen Komponenten, die in der Lage sind, hohe Genauigkeit und Präzision bei der Verarbeitung selbst der kompliziertesten Muster zu bieten. Die Anlage beinhaltet eine spezielle Hochrichtgenauigkeitsfunktion, die eine schnelle Einrichtung des Modells ermöglicht und den Zeitaufwand für die Testverarbeitung reduziert, wodurch qualitativ hochwertige Ergebnisse in einem Bruchteil der üblichen Zeit erzielt werden können. Das bildgebende Gerät umfasst einen 4k x 4k CCD mit 9 Belichtungstoren und einen Hochgeschwindigkeits-Linearmotor, der für ein hochgenaues und präzises Abtastmuster sorgt. Das System verwendet nur einen einzigen Scan für die Wiederholbarkeit und Einheitlichkeit des Prozesses, wodurch die Notwendigkeit mehrerer Belichtungen entfällt und Zeit, Aufwand und Kosten gespart werden. Die Steuerungssoftware, die im Gerät enthalten ist, bietet eine benutzerfreundliche Oberfläche und eine umfangreiche Liste von Funktionen wie integriertes Schichtmanagement, automatische Musteroptimierung und Waferinspektion. Außerdem kann die Maschine Fehler, die durch Umgebungstemperaturschwankungen auftreten können, automatisch kompensieren. Dies gewährleistet gleichbleibende Ergebnisse auch bei schwierigen Umgebungsbedingungen. FPA 6000 ES5 ist ein ideales Werkzeug für diejenigen, die hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit benötigen, die mit kleineren Substraten arbeiten oder hohe Mengen an Wafern schnell und einfach verarbeiten müssen. Die fortschrittliche Bildgebung und optische Ausstattung des Modells bietet Anwendern ein Endprodukt, das schnell und einfach den anspruchsvollen Anforderungen vieler Waferbearbeitungsanwendungen gerecht wird.
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